[发明专利]一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法在审
申请号: | 202211287793.0 | 申请日: | 2022-10-20 |
公开(公告)号: | CN115747699A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 杨昌麟;张秀芳;颜小芳;周克武;王美琪;张宇航;潘杰;柏小平;陈松扬 | 申请(专利权)人: | 浙江福达合金材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C4/08 | 分类号: | C23C4/08;C23C4/137;C22C5/06 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 陈加利 |
地址: | 325000 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化物 含量 氧化 片状 触点 材料 制备 方法 | ||
1.一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于该方法适用于氧化物总含量不少于12.5wt%的银氧化锡片状触点材料制备,该方法包括以下步骤:
(1)将银锭、锡锭、铟锭、添加物进行熔炼,浇铸成锭子并车削去除表面氧化皮;
(2)将车削好的锭子表面进行金属喷镀,使得锭子表面形成低硬度纯银镀层;
(3)将步骤(2)表面喷镀处理的锭子进行烧结,使得低硬度纯银镀层与锭子基体形成冶金结合;
(4)将步骤(3)烧结后的锭子热挤压成板材,并进行热轧成带材;
(5)将步骤(4)热轧后的带材进行单面打磨去除单面镀层;
(6)将步骤(5)处理后的带材精轧、冲制、内氧化处理及后处理工序,最终制备出银氧化锡片状触点。
2.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:高氧化物含量银氧化锡片状触点的组分及含量为:银含量为80%~85.5%(wt.%)、氧化锡含量在10%~15%(wt.%)、氧化铟含量2.5%~4.5%(wt.%)、添加物为单质金属或合金,成分为镍、铜、锑、稀土元素的一种或多种组合,总含量≤1.5%(wt.%)。
3.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的锭子为圆柱形锭子,车削深度为1~2mm、车削后锭子直径在
4.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(2)中金属喷镀的低硬度纯银镀层厚度在0.5~5mm。
5.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(2)金属喷镀的主要过程包括:
a)将的纯银金属丝作为镀面金属丝通过喷嘴并伸出空气风帽外10~20mm,保持喷枪尽可能与基体面垂直,设定喷镀距离为100~200mm、喷镀送丝速度为3~6mm/s;
b)点火:向喷枪供给惰性压缩气体,然后打开氧气、乙炔气体开关并点火进行喷镀,喷镀过程控制惰性压缩气体压力在0.4~0.6Mpa、氧气压力0.4~0.6Mpa、乙炔使用压力0.05~0.2Mpa;
c)喷镀:喷枪的移动速度控制在200~350mm/s,以保证单层喷镀层厚度控制在0.15~0.35mm;为使锭子总喷镀层厚度达到设计要求,喷镀的具体实施方式为采用90°或者45°交叉分层喷镀方式;
d)停机:达到要求的喷镀层数时,停止送丝、关闭氧气、乙炔气体开关,最后关闭压缩空气,结束喷镀。
6.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(3)所述的烧结工艺为:烧结温度为650~850℃、保温时间为2~4h、真空或惰性气体气氛。
7.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(4)所述的带材厚度为0.4~4mm。
8.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(5)所述的单面打磨为采用自动打磨设备对带材进行单面打磨去除镀银层,为确保打磨后带材表面光滑,依次过100目、200目、500目砂纸。
9.根据权利要求1所述的一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其特征在于:步骤(6)所述的内氧化工艺为700~850℃、氧压为0.6~1.5Mpa、氧化时间为25~120h。
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