[发明专利]一种瑞卢戈利盐的晶型、其制备方法和应用

权利要求书

1.一种瑞卢戈利盐的晶体，其特征在于，其为式II所示的瑞卢戈利一丙酸盐的晶体，其具有如下晶胞参数：空间群Pbca；β＝90°，γ＝90°，晶胞内不对称单位数Z＝8，晶体密度为1.470mg/m³；

其中，X为0至2；

或者，其为式I所示的瑞卢戈利一乙酸盐的晶体，其具有如下晶胞参数：空间群Pbca；α＝90°，β＝90°，γ＝90°，晶胞内不对称单位数Z＝8，晶体密度为1.510mg/m³；

其中，Y为0至2。

2.如权利要求1所述的晶体，其特征在于，所述晶体中，所述X为0或0.66，和/或，所述Y为0或1.7。

3.一种瑞卢戈利盐的晶型，其特征在于，其为式I所示的瑞卢戈利一乙酸盐的晶型或式II所示的瑞卢戈利一丙酸盐的晶型；

其中，Y为0至2；X为0至2；

所述式I所示的瑞卢戈利一乙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图在5.02±0.2°、8.97±0.2°、9.06±0.2°、10.05±0.2°、12.74±0.2°和20.00±0.2°处有衍射峰；

所述式II所示的瑞卢戈利一丙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图在5.27±0.2°、9.04±0.2°、10.51±0.2°、12.79±0.2°和20.27±0.2°处有衍射峰。

4.如权利要求3所述的晶型，其特征在于，所述晶型满足如下一个或多个条件：

(1)所述式I所示的瑞卢戈利一乙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图还进一步在以下一处或多处有衍射峰：11.97±0.2°、18.47±0.2°、21.67±0.2°和26.16±0.2°，优选地，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图还进一步在以下一处或多处有衍射峰：9.40±0.2°、18.97±0.2°、19.64±0.2°和24.51±0.2°，进一步地，所述式I所示的瑞卢戈利一乙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图在5.02±0.2°、8.97±0.2°、9.06±0.2°、9.40±0.2°、10.05±0.2°、11.97±0.2°、12.49±0.2°、12.74±0.2°、13.31±0.2°、13.52±0.2°、15.50±0.2°、15.70±0.2°、16.31±0.2°、16.80±0.2°、17.20±0.2°、17.40±0.2°、17.58±0.2°、18.47±0.2°、18.97±0.2°、19.64±0.2°、20.00±0.2°、21.01±0.2°、21.67±0.2°、22.06±0.2°、22.92±0.2°、23.51±0.2°、24.01±0.2°、24.51±0.2°、25.33±0.2°、26.16±0.2°、27.20±0.2°、27.77±0.2°、28.35±0.2°、28.80±0.2°、30.22±0.2°、31.23±0.2°、32.14±0.2°、32.99±0.2°、33.54±0.2°、34.42±0.2°、37.47±0.2°和38.86±0.2°处有衍射峰；

(2)所述式II所示的瑞卢戈利一丙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图还进一步在以下一处或多处有衍射峰：9.40±0.2°和22.18±0.2°，优选地，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图还进一步在以下一处或多处有衍射峰：19.72±0.2°、24.00±0.2°、24.60±0.2°和26.24±0.2°，进一步地，所述式II所示的瑞卢戈利一丙酸盐的晶型，其使用Cu-Kα辐射、以2θ角表示的X-射线粉末衍射图在5.27±0.2°、9.04±0.2°、9.40±0.2°、10.51±0.2°、12.00±0.2°、12.79±0.2°、13.63±0.2°、15.45±0.2°、15.66±0.2°、16.29±0.2°、17.35±0.2°、19.04±0.2°、19.72±0.2°、20.27±0.2°、21.07±0.2°、22.18±0.2°、24.00±0.2°、24.60±0.2°、25.16±0.2°、26.24±0.2°、27.72±0.2°、28.73±0.2°、30.42±0.2°和32.89±0.2°处有衍射峰。