[发明专利]抬头显示模组内部杂散光分析方法、装置、设备及介质在审
申请号: | 202211295423.1 | 申请日: | 2022-10-21 |
公开(公告)号: | CN115598836A | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 王云帆;高昌达 | 申请(专利权)人: | 浙江炽云科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B27/01 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孔凡红 |
地址: | 310012 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抬头 显示 模组 内部 散光 分析 方法 装置 设备 介质 | ||
1.一种抬头显示模组内部杂散光分析方法,其特征在于,包括:
建立抬头显示模组光学模型,所述抬头显示模组光学模型包括显示屏、平面镜、曲面镜、防尘板、挡风玻璃和眼盒;
控制点亮所述显示屏中的局部像素点,并依次改变所述显示屏的出光角度以及依次改变点亮的所述局部像素点的位置,分别获取不同出光角度和不同局部像素点位置下所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势;
根据所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势,确定抬头显示模组内部是否存在杂散光和/或抬头显示模组内部存在的杂散光的类型。
2.根据权利要求1所述的抬头显示模组内部杂散光分析方法,其特征在于,所述抬头显示模组的内部杂散光类型包括第一类杂散光、第二类杂散光和第三类杂散光,其中,所述第一类杂散光为所述显示屏和所述平面镜之间多次反射形成,所述第二类杂散光为所述平面镜和所述曲面镜之间多次反射形成,所述第三类杂散光为防尘板表面反射形成;
所述根据所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势,确定抬头显示模组内部是否存在杂散光和/或抬头显示模组内部存在的杂散光的类型,包括:
在所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势中存在第一种反射光,且所述第一种反射光依次经所述平面镜、所述曲面镜和所述挡风玻璃入射至所述眼盒中时,确定所述抬头显示模组内部存在第一类杂散光;其中,所述第一种反射光为所述平面镜反射至所述显示屏的反射光;
在所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势中存在第二种反射光,且所述第二种反射光依次经所述曲面镜和所述挡风玻璃入射至所述眼盒中时,确定所述抬头显示模组内部存在第二类杂散光;其中,所述第二种反射光为所述曲面镜反射至所述平面镜的反射光;
在所述抬头显示模组光学模型的内部光线走势中存在第三种反射光,且所述第三种反射光依次经所述曲面镜和所述挡风玻璃入射至所述眼盒中时,确定所述抬头显示模组内部存在第三类杂散光;其中,所述第三种反射光为所述平面镜反射至所述防尘板的反射光。
3.根据权利要求1所述的抬头显示模组内部杂散光分析方法,其特征在于,所述依次改变所述显示屏的出光角度以及依次改变点亮的所述局部像素点的位置,包括:
依次移动局部像素点的位置,且在每次移动所述局部像素点的位置后,依次改变所述显示屏的出光角度。
4.根据权利要求1所述的抬头显示模组内部杂散光分析方法,其特征在于,所述显示屏包括分别沿第一方向和第二方向呈阵列排布的多个像素点,所述第一方向和所述第二方向垂直;
所述控制点亮所述显示屏中的局部像素点,并依次改变所述显示屏的出光角度以及依次改变点亮的所述局部像素点的位置,包括:
以沿所述第一方向依次排列的多个像素点作为所述局部像素点,控制点亮所述局部像素点,依次改变所述显示屏的出光角度并在所述第二方向上依次移动所述局部像素点;
和/或,以沿所述第二方向依次排列的多个像素点作为所述局部像素点,控制点亮所述局部像素点,依次改变所述显示屏的出光角度并在所述第一方向上依次移动所述局部像素点;
和/或,以分别沿所述第一方向和所述第二方向排列的多个像素点作为所述局部像素点,控制点亮所述局部像素点,依次改变所述显示屏的出光角度并在所述第一方向和所述第二方向上分别依次移动所述局部像素点。
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