[发明专利]一种单管注气排卤系统及方法在审

专利信息
申请号: 202211298149.3 申请日: 2022-10-21
公开(公告)号: CN115522895A 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 杨海军;孔凡军 申请(专利权)人: 威理尔储气库技术(常州)有限公司
主分类号: E21B43/00 分类号: E21B43/00;E21F17/16;E21B43/28
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 吴佳
地址: 213200 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 单管注气排卤 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种单管注气排卤系统,用于底部连通形成连通盐穴的A盐穴和B盐穴,其特征在于,包括注采气管柱、排卤管柱和防溢气排卤装置,所述注采气管柱上端悬挂在A盐穴的第一井口装置的套管悬挂器上,所述第一井口装置上设有注气阀,所述排卤管柱上端悬挂在B盐穴的第二井口装置的套管悬挂器上,所述第二井口装置上设有排卤阀;

所述注采气管柱上沿注气方向依次设有第一安全阀、第一封隔器和第一坐落接头;所述排卤管柱上沿排卤方向依次设有防溢气排卤装置、第二坐落接头、第二封隔器、第二安全阀;所述第一安全阀距离A盐穴井口的距离为60m~70m,所述第二安全阀距离B盐穴井口的距离为60m~70m,所述第一封隔器距离A盐穴生产套管鞋的距离为15m~18m,注采气管柱下端在A盐穴生产套管以内;所述第二封隔器距离B盐穴生产套管鞋的距离为15m~18m;所述防溢气排卤装置位于排卤管柱下端,其进卤水口位于B盐穴底部以上1.5-2m。

2.根据权利要求1所述一种单管注气排卤系统,其特征在于,所述防溢气排卤装置包括外管、内管和辐筋,所述外管为下端封堵、上端敞口的结构,所述内管利用辐筋同轴固定在外管的内侧壁上,所述内管下端的进卤水口与外管的封堵端间隔布置形成进卤水通道,所述内管下端的进卤水口与所述外管的敞口端连通,所述内管上端通过连接螺纹与排卤管柱螺纹连接。

3.一种单管注气排卤方法,其特征在于,采用权利要求1或2所述的单管注气排卤系统实现,包括以下步骤:

S1,在A盐穴井筒的生产套管中下入注采气管柱,在下入注采气管柱时,注采气管柱上端悬挂在A盐穴的第一井口装置的套管悬挂器上,第一封隔器通过打压坐封;

S2,在B盐穴井筒的生产套管中下入排卤管柱,在下入排卤管柱时,排卤管柱上端悬挂在B盐穴的第二井口装置的套管悬挂器上,第二封隔器通过打压坐封;

S3,打开第一井口装置上的注气阀,打开第二井口装置上的排卤阀,通过注气阀向A盐穴中注入天然气,卤水从B盐穴第二井口装置的排卤阀排出,A盐穴的第一气液界面逐渐下降,监测第一气液界面距离A盐穴井筒井口的高度,监测注气排卤过程;

S4,持续向A盐穴中注入天然气,当A盐穴中的第一气液界面达到A盐穴与B盐穴之间连通通道上边缘的最低点时,即在A盐穴的天然气进入B盐穴之前,停止向A盐穴中注入天然气,A盐穴的注气排卤结束,实现单穴注气排卤;

或当A盐穴中的第一气液界面达到A盐穴与B盐穴之间连通通道上边缘的最低点时,继续向A盐穴中注入天然气,天然气将会通过连通通道进入B盐穴并上升到B盐穴的顶端,从B盐穴的顶端驱动卤水从排卤管柱排出,B盐穴的第二气液界面逐渐下降,监测第二气液界面距离B盐穴井筒井口的高度,当第二气液界面到达防溢气排卤装置的进卤水口以上1.5m时,停止向A盐穴中注入天然气,B盐穴的注气排卤结束,实现双穴注气排卤。

4.根据权利要求3所述一种单管注气排卤方法,其特征在于,监测第一气液界面距离A盐穴井筒井口的高度以及监测第二气液界面距离B盐穴井筒井口的高度的方法包括中子测井法和声呐检测法。

5.根据权利要求3所述一种单管注气排卤方法,其特征在于,双穴注气排卤时,停止向A盐穴中注入天然气后,进行气液界面平衡,使第一气液界面和第二气液界面位于同一高度,防溢气排卤装置的进卤水口将会在第二气液界面以上,因此,采气时气体会通过防溢气排卤装置的进卤水口进入排卤管柱,再从第二井口装置的排卤阀采出天然气,即在注气排卤结束后B盐穴的排卤管柱变为注采气管柱。

6.根据权利要求5所述一种单管注气排卤方法,其特征在于,进行气液界面平衡,具体包括,将注采气管柱的注气口和排卤管柱的排卤口连通,进行气液界面平衡。

7.根据权利要求5所述一种单管注气排卤方法,其特征在于,进行气液界面平衡之后,同时给A盐穴和B盐穴注气升压至预设上限压力。

8.根据权利要求7所述一种单管注气排卤方法,其特征在于,所述预设上限压力为生产套管鞋的深度乘以0.017Mpa/m。

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