[发明专利]隐足建盏的制备工艺及其制备的隐足建盏

说明书

本发明公开了隐足建盏的制备工艺及其制备的隐足建盏，制备工艺包括以下步骤：(1)制备坯体和釉浆，其中，所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置；(2)施釉：所述内底足不施釉，坯体其它位置均施釉；(3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，所述内底足放置于支垫上，所述支垫宽度小于所述外底足，所述外底足悬空放置。本发明烧制得到的隐足建盏的外底足具有釉层，光滑细腻，放置于茶桌上不会摩擦损坏茶桌。同时在烧制过程中，不会产生流釉粘窑的缺陷，成品率提高。

技术领域

本发明涉及瓷器技术领域，具体地说是涉及建盏的制备工艺。

背景技术

建盏的外形一般以沿口宽敞、底部微小、形状如漏斗为特征。底部以浅圈来承载器身，名为“圈足”或“底足”。

建盏在烧制过程中，为了防止釉层流到盏器底部出现粘窑的情况，在建盏外壁往往施半釉，即坯体外底部(圈足及圈足往上一部分)不施釉，以免在高温烧制过程中釉水过厚向下流淌，导致粘窑成为废盏。

因而建盏外底部无釉层，质地较粗，在茶桌上使用时，易使茶桌产生摩擦痕迹，对茶桌表面造成损坏。

因此，本领域需要开发一种底部细腻、对茶桌不会造成损坏的建盏。

发明内容

本发明的目的在于提供隐足建盏的制备工艺，该隐足建盏底部细腻、对茶桌不会造成损坏。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

隐足建盏的制备工艺，包括以下步骤：

(1)制备坯体和釉浆，其中，

所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置；

(2)施釉：所述内底足不施釉，坯体其它位置均施釉；

(3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，所述内底足放置于支垫上，所述支垫宽度小于所述外底足，所述外底足悬空放置。

进一步地，所述施釉为：将内底足底面上蜡，然后整个坯体放入釉浆中浸泡上釉，再取出晾干。

进一步地，所述浸泡时间为2-5s。

进一步地，所述釉浆通过以下方法制备：称取150重量份的釉石、98-102重量份的钾长石、48-51重量份的石灰石、19-21重量份的滑石、43-45重量份的红土及365-375重量份的水，加入球磨机中研磨，过100-110目筛，得到釉浆。

进一步地，所述坯体通过以下方法制备：将2-2.5重量份的红土、7-9重量份的高岭土混合得到坯土，将坯土粉碎、淘洗，过80-90目筛，压滤、炼泥、陈腐，得到坯泥；将所述坯泥拉坯成型、修坯、素烧、冷却，得到坯体。

进一步地，所述红土和高岭土取自福建省南平市建阳区水吉镇，所述釉石取自福建省南平市建阳区南林村。

一种隐足建盏，所述的隐足建盏通过以上所述的工艺制备获得。

采用上述技术方案后，本发明具有如下优点：

本发明烧制得到的隐足建盏，坯体底足为双底足，包括外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置。内底足不施釉，其它位置施釉。如此，建盏外底足具有釉层，光滑细腻，放置于茶桌上不会摩擦损坏茶桌。同时在烧制过程中，不会产生流釉粘窑的缺陷，成品率提高。

附图说明

图1为本发明制得的建盏的示例图；

图2为图1的剖视图；

图3为本发明实施例1制得的建盏的照片示例图。