[发明专利]一种整体式屏幕玻璃切割固定工作平台

权利要求书

1.一种整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，包括一个呈整体式水平板状结构的平台本体，平台本体上表面为支撑平面，平台本体上表面开设有若干竖直向下的吸附口，吸附口呈均匀阵列排布，平台本体内部具有沿水平方向设置的多条真空管路，各吸附口均连通到对应的真空管路上。

2.如权利要求1所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，真空管路为沿直线方向设置且截面为圆形的管路，真空管路至少有一端开设在平台本体侧面上。

3.如权利要求2所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，真空管路在平台本体侧面的开口上设置有堵头，在平台本体下方开设有竖向的抽真空接口和真空管路连通。

4.如权利要求2所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，平台本体至少在两个相对的侧面上还设置有用于安装固定自身的安装孔。

5.如权利要求2所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，安装孔为多个且呈均匀间隔的水平排状设置。

6.如权利要求1所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，若干真空管路相互连通构成至少对应一个特定型号产品面积大小的连通吸附区域，平台本体上形成有多个连通吸附区域，各连通吸附区域均具有一对位于下方的和真空管路相通的抽真空接口。

7.如权利要求6所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，整体上各个连通吸附区域之间呈从内到外的半包围式结构布置。

8.如权利要求6所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，各个连通吸附区域的抽真空接口均位于平台本体下方中部位置且整体围绕呈类似环形结构布置。

9.如权利要求6所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，连通吸附区域包括位于平台本体一侧中部位置的第一连通吸附区域，第一连通吸附区域包括多根沿平台本体宽度方向均匀间隔布置的第一长度方向真空管路，第一长度方向真空管路从平台本体长度方向一侧侧边沿长度方向延伸到平台本体中部附近，第一连通吸附区域还包括至少一根沿平台宽度方向设置的第一宽度方向真空管路，第一宽度方向真空管路贯通连接第一长度方向真空管路并沿平台本体宽度方向的单侧延伸至侧边，所述第一长度方向真空管路和第一宽度方向真空管路均位于第一水平面上；

连通吸附区域还包括半包围设置在第一连通吸附区域外的第二连通吸附区域，第二连通吸附区域包括多根在平台本体宽度方向上分布于第一连通吸附区域两侧的第二长度方向真空管路，第二长度方向真空管路沿平台本体宽度方向上均匀间隔布置，第二连通吸附区域还包括至少一根第二宽度方向真空管路，第二宽度方向真空管路沿平台本体长度方向均匀间隔布置且位于第一宽度方向真空管路背离第一连通吸附区域方向的外侧，第二宽度方向真空管路沿平台本体宽度方向的单侧延伸至侧边，且第二宽度方向真空管路延伸至平台本体侧边的方向和第一宽度方向真空管路延伸至平台本体侧边的方向相反，第二长度方向真空管路和第二宽度方向真空管路均位于第二水平面上，第二水平面和第一水平面在高度方向上错位设置；

连通吸附区域还包括半包围设置在第二连通吸附区域外的第三连通吸附区域，第三连通吸附区域包括多根在平台本体宽度方向上分布于第二连通吸附区域两侧的第三长度方向真空管路，第三长度方向真空管路沿平台本体宽度方向上均匀间隔布置，第三连通吸附区域还包括至少一根第三宽度方向真空管路，第三宽度方向真空管路沿平台本体长度方向均匀间隔布置且位于第二宽度方向真空管路背离第一连通吸附区域方向的外侧，第三宽度方向真空管路沿平台本体宽度方向的单侧延伸至平台本体侧边，且第三宽度方向真空管路延伸至平台本体侧边的方向和第二宽度方向真空管路延伸至平台本体侧边的方向相同，其中和第三宽度方向真空管路延伸至平台本体侧边方向位于同一侧的第三长度方向真空管路位于第一水平面上，另一侧的第三长度方向真空管路和第三宽度方向真空管路均位于第二水平面上；

连通吸附区域还包括第四连通吸附区域，第四连通吸附区域包括在平台本体宽度方向上分布于第三连通吸附区域两侧的第四长度方向真空管路，第四连通吸附区域还包括沿平台本体宽度方向延伸的第四宽度方向真空管路，和第一宽度方向真空管路连接到平台本体侧边的该侧方向一致的第四长度方向真空管路位于第二水平面上，另一侧的第四长度方向真空管路和第四宽度方向真空管路位于第一水平面上。

10.如权利要求9所述的整体式屏幕玻璃切割固定工作平台，其特征在于，连通吸附区域还包括第五连通吸附区域，第五连通吸附区域位于平台本体背离第一连通吸附区域方向的一端，第五连通吸附区域包括多个沿平台本体宽度方向设置的第五宽度方向真空管路，第五宽度方向真空管路沿平台本体长度方向均匀间隔排布，第五宽度方向真空管路的一端延伸至平台本体侧边，第五宽度方向真空管路的另一端相交贯通连接有沿平台本体长度方向布置的第五长度方向真空管路，第五长度方向真空管路背离第一连通吸附区域的一端延伸到平台本体端部侧面，第五宽度方向真空管路和第五长度方向真空管路均位于第二水平面上，第五连通吸附区域还包括两根沿平台本体长度方向设置的第五抽真空连接用辅助管路，第五抽真空连接用辅助管路位于第三水平面上且一端延伸进入到第三连通吸附区域内并设置对应的抽真空接口，另一端连接至平台本体侧边；

连通吸附区域还包括第六连通吸附区域，第六连通吸附区域包括和第五宽度方向真空管路并列间隔设置在平台本体端部的第六宽度方向真空管路，第六宽度方向真空管路的一端连通至平台本体侧边，第六宽度方向真空管路的两端均贯通相交连接有第六长度方向真空管路，第六宽度方向真空管路的中部位置还设置有两根沿平台本体长度方向设置的第六抽真空连接用辅助管路，第六抽真空连接用辅助管路一端延伸进入到第三连通吸附区域内并设置对应的抽真空接口，另一端连接至平台本体侧边，所述第六宽度方向真空管路、第六长度方向真空管路和第六抽真空连接用辅助管路均位于第一水平面上。