[发明专利]一种去相干偏振门成像装置及方法

权利要求书

1.一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，包括沿光路方向依次设置的起偏器、检偏器以及弱散射介质；

所述光路为单光束成像光路；所述起偏器的偏振方向与所述光路中入射光的偏振方向相同，所述检偏器的偏振方向与所述光路中入射光的偏振方向平行。

2.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，所述起偏器和所述检偏器的通过孔径大于光路中透射光束的横向尺寸。

3.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，所述起偏器和所述检偏器为棱镜偏振器或消光比大于10⁴：1的薄膜偏振器。

4.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，所述弱散射介质包括聚苯乙烯微球溶液、二氧化硅微球溶液、二氧化钛微球溶液、牛奶溶液或脂肪乳。

5.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，沿所述光路方向，在所述起偏器前设置有衰减片、扩束镜、反射镜和半导体激光器。

6.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，沿所述光路方向，在所述起偏器和所述检偏器之间设置有第一胶合透镜和第二胶合透镜。

7.如权利要求6所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，待测目标设置在所述起偏器和所述第一胶合透镜之间；所述待测目标设置在所述第一胶合透镜的一倍焦距处。

8.如权利要求7所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，所述待测目标和所述第一胶合透镜之间设置有混浊介质。

9.如权利要求1所述的一种去相干偏振门成像装置，其特征在于，沿所述光路方向，在所述检偏器后设置有所述弱散射介质和CCD相机。

10.一种去相干偏振门成像方法，其特征在于，采用了如权利要求1-9任一项所述的去相干偏振门成像装置，包括：

半导体激光器出射光照射到衰减片上，调整入射光的光强；

激光照射到待测目标上，携带待测目标形貌信息后，顺次经过混浊介质、胶合透镜、检偏器和弱散射介质；

最后出射光在CCD相机上成像，获得目标物体的成像信息。