[发明专利]紫外发光二极管曝光装置及系统

权利要求书

1.一种紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，包括：

紫外发光二极管光源，包括阵列贴片式的紫外发光二极管灯珠，所述紫外发光二极管灯珠用于发射紫外光束；

准直镜组，用于对所述紫外光束进行收光准直；

复眼镜组，用于对收光准直后的紫外光束进行匀光；

聚光镜组，用于对匀光后的紫外光束进行聚光；

曝光面，用于利用聚光后的紫外光束进行曝光的工作面；

控制模块，用于通过高频开关模式，独立控制每个所述紫外发光二极管灯珠的开关。

2.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述准直镜组包括：

滤光片，用于对所述紫外光束进行滤光，得到曝光所需波长和带宽的所述紫外光束；

抛物面反射镜，用于对滤光后的紫外光束进行收光准直，其中，所述紫外光束倾斜预设角度入射至所述抛物面反射镜，所述抛物面反射镜与所述紫外发光二极管光源的数值孔径、发散半角匹配。

3.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述准直镜组包括：

滤光片，用于对所述紫外光束进行滤光，得到曝光所需波长和带宽的所述紫外光束；

凹透镜，用于对滤光后的紫外光束进行收光，其中，所述凹透镜的曲率半径和数量由所述紫外发光二极管光源的通光孔径、数值孔径、发散半角确定；

准直镜，用于对收光后的紫外光束进行准直。

4.根据权利要求2或3所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述紫外发光二极管曝光装置还包括：

液体光纤，用于将所述紫外发光二极管光源发射的紫外光束引入所述准直镜组。

5.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述复眼镜组包括两排复眼透镜，沿光路方向，后排复眼透镜位于前排复眼透镜的焦点处。

6.根据权利要求5所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，复眼透镜以平方阵列或者正六边形或者八边形阵列方式分布于光路中。

7.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述聚光镜组将所述复眼镜组到所述曝光面的光距分割为聚光工作距和曝光工作距，所述聚光镜组被配置为通过调节所述聚光镜组的曲率半径来调整所述聚光工作距和所述曝光工作距。

8.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述紫外发光二极管曝光装置还包括：

第一反射镜，用于对所述复眼镜组至所述聚光镜组的光路和/或所述聚光镜组至所述曝光面的光路进行折转。

9.根据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述控制模块包括控制器和控制系统，其中：

所述控制器配置有与每个紫外发光二极管灯珠对应的独立芯片，通过寻址的方式对每个紫外发光二极管灯珠进行独立控制；

所述控制系统用于通过软件界面发送控制指令至所述控制器以控制紫外发光二极管灯珠的开关和采集所述紫外发光二极管灯珠的工作参数。

10.据权利要求1所述的紫外发光二极管曝光装置，其特征在于，所述紫外发光二极管曝光装置还包括：

复合抛物面聚光器，设于所述紫外发光二极管光源的出射光路上，用于减小所述紫外发光二极管光源的发散角。

11.一种紫外发光二极管曝光系统，其特征在于，包括：

多个如权利要求1-10任一项所述的紫外发光二极管曝光装置；

第二反射镜，用于将多个所述紫外发光二极管曝光装置的聚光镜组聚光后的紫外光束折转后，以预设入射角入射至同一曝光面，实现同轴曝光和离轴曝光，其中，各个聚光镜组聚光后的紫外光束对应的预设入射角相同或者不同。