[发明专利]Micro-LED芯片外延片及其制备方法在审
申请号: | 202211333088.X | 申请日: | 2022-10-28 |
公开(公告)号: | CN115548175A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 郭磊;吕守贵;董国庆;文国昇;金从龙 | 申请(专利权)人: | 江西兆驰半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/30 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 王建宇 |
地址: | 330000 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | micro led 芯片 外延 及其 制备 方法 | ||
1.一种Micro-LED芯片外延片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)提供GaAs衬底,在所述GaAs衬底上形成外延层;
(2)在所述外延层远离所述GaAs衬底的一表面上形成牺牲层,得到第一外延结构;
(3)将所述第一外延结构与玻璃片键合;
(4)去除所述GaAs衬底,暴露所述外延层,得到第二外延结构;
(5)将所述第二外延结构与蓝宝石衬底键合;
(6)去除所述玻璃片;
(7)去除所述牺牲层,得到Micro-LED芯片外延片成品;
其中,所述牺牲层为Ti层、Au层、SiNx层中的一种或多种。
2.如权利要求1所述的Micro-LED芯片外延片的制备方法,其特征在于,所述牺牲层包括依次形成于所述外延层上的SiNx层、Ti层和Au层;
所述SiNx层的厚度为所述Ti层的厚度为所述Au层的厚度为
3.如权利要求1所述的Micro-LED芯片外延片的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,在所述玻璃片和所述牺牲层上均涂覆第一有机粘结剂,然后将所述玻璃片与所述第一外延结构键合;
其中,所述第一有机粘结剂选用硅基胶、环氧树脂化合物、BCB胶、聚酰亚胺胶中的一种或多种;
其中,键合程序为:
在2000-2700s内将键合温度由10-30℃升高至200-230℃,且维持键合压力为0;
在1800-2000s内将键合温度由200-230℃升高至220-260℃,且将键合压力由0升高至750-850kgf/cm2;
在600-1000s内将键合温度由220-260℃降低至40-80℃,且维持键合压力为750-850kgf/cm2。
4.如权利要求3所述的Micro-LED芯片外延片,其特征在于,所述第一有机粘接剂选用BCB46胶;
在涂覆第一有机粘结剂前,涂覆增粘剂,所述增粘剂选用AP3000。
5.如权利要求1所述的Micro-LED芯片外延片的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,采用NH4OH和H2O2的混合液去除所述GaAs衬底,其中,NH4OH与H2O2的体积比为1:(8-10);
步骤(6)中,采用HF溶液腐蚀去除所述玻璃片;
步骤(7)中,采用HF溶液和/或TFA溶液去除所述牺牲层;
所述TFA溶液包括:碘4-5.5重量份,KI 8-12重量份,水35-50体积份。
6.如权利要求5所述的Micro-LED芯片外延片的制备方法,其特征在于,所述外延层与所述GaAs衬底之间形成有截止层,所述截止层为n-(AlxGa1-x)yIn1-yP层,其中,x为0.2-0.4,y为0.4-0.6;
步骤(4)中,去除GaAs衬底后,采用HCl和H3PO4的混合液去除所述截止层;其中,HCl和H3PO4的体积比为(1.8-2.5):1。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西兆驰半导体有限公司,未经江西兆驰半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211333088.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。