[发明专利]一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构在审

专利信息
申请号: 202211343760.3 申请日: 2022-10-31
公开(公告)号: CN115910421A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 李亚冉;孙涵涵;穆宝忠;马焕臻 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G21K7/00 分类号: G21K7/00
代理公司: 重庆立信达知识产权代理有限公司 50286 代理人: 李小伟
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高分辨率 高集光 效率 射线 显微 成像 光学 结构
【说明书】:

本发明公开了X射线光学技术领域的一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构,包括开放式旋转双曲面镜、开放式旋转椭球面镜、成像探测器和成像物平面;建立光学结构的方法如下:建立空间直角坐标系,将开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜置于空间直角坐标系的第八象限,其中,开放式旋转双曲面镜与开放式旋转椭球面镜保持相近的掠入射角度;开放式旋转双曲面镜与开放式旋转椭球面镜保持同轴共焦点;调节开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜之间的角度,确定双曲面焦点和椭球面焦点的位置;双曲面焦点和椭球面焦点均位于空间直角坐标系的x轴上,成像物平面位于双曲面焦点处,成像探测器位于椭球面焦点处。

技术领域

本发明属于X射线光学技术领域,具体是一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构。

背景技术

在激光惯性约束聚变中,高精密的X射线成像诊断设备或技术已经成为深入理解内爆过程和定量化反演内爆参数的关键。在辐照均匀性、内爆压缩对称性、流体力学不稳定性以及燃料混合等多个物理问题的研究中发挥重要作用。

目前在惯性约束聚变诊断中得到应用的X射线成像类诊断设备主要包括针孔相机、Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜、Wolter显微镜以及球面弯晶等。针孔相机和KB显微镜的空间分辨率受光学构型制约,被限制在5~10μm,集光立体角分别被限制在~10-8sr和~10-7sr量级。传统的封闭式Wolter显微镜构型可以获得理论上的高空间分辨率,但由于难以实现小口径封闭式内表面超光滑反射镜的加工,难以获得符合成像要求的反射镜面型和表面粗糙度,所以难以发挥出高分辨成像的优势。球面弯晶主要作为一种单色化成像技术手段,其空间分辨率被限制在~5μm,难以进一步提升。综上所示,现有X射线成像诊断设备的空间分辨率受光学构型及关键光学元件加工能力制约,空间分辨率被限制在5~10μm,难以满足惯性约束聚变对高精密X射线成像诊断的需求。

中国专利公布号CN 102945688 A提出一种X射线KBA显微成像系统,该系统包括物镜M1、物镜M2、物镜M3、物镜M4、光学棱镜块N1及光学棱镜块N2,其中在子午方向上的物镜M1和物镜M2的工作反射面顶靠在光学棱镜块N1具有夹角η1的两个相邻面T1面和T2面上,在弧矢方向上的物镜M3和物镜M4的工作反射面顶靠在光学棱镜块N2具有夹角η2的两个相邻面T3面和T4面上。

但是,上述技术方案中,采用的是球面反射镜的KBA构型,子午和弧矢方向分别聚焦成像,每个聚焦方向的两块球面反射镜具有相同的曲率半径,上述技术方案提出的KBA结构在子午和弧矢聚焦方向上互成孔径光阑,形成小通光区域,不具备高集光效率的特点,因此,有必要提出一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构。

发明内容

为了解决上述问题,本发明的目的是提供一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构。

为了实现上述目的,本发明的技术方案如下:一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构,包括开放式旋转双曲面镜、开放式旋转椭球面镜、成像探测器和成像物平面;建立光学结构的方法如下:建立空间直角坐标系,将开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜置于空间直角坐标系的第八象限,调节开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜之间的角度,确定双曲面焦点和椭球面焦点的位置;双曲面焦点和椭球面焦点均位于空间直角坐标系的x轴上,成像物平面位于双曲面焦点处,成像探测器位于椭球面焦点处。

开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜镜长均为5~200mm,镜宽均为2~20mm,面型精度rms值均为λ/10~λ/100,粗糙度均大于0.3nm。

空间分辨能力与垂轴像差呈负相关,垂轴像差表达式如下:

其中,σ是视场角,可以近似根据σ=q/u计算得出,q是物方视场的垂轴距离,u是从物点至开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜中心的物距,K1和K2分别为拟合系数;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211343760.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top