[发明专利]显示装置、显示面板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202211351102.9 申请日: 2022-10-31
公开(公告)号: CN115633528A 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 刘文祺;孙中元;薛金祥;焦志强;王伟杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H10K59/131 分类号: H10K59/131;H10K59/122;H10K50/805;H10K71/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 张旭庆
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 显示 面板 及其 制造 方法
【说明书】:

一种显示面板及显示装置。显示面板包括驱动背板、第一电极、像素定义层、发光层和第二电极,第一电极阵列分布于驱动背板一侧面;相邻两第一电极在驱动背板上的正投影的间距为最小间距;相邻两第一电极的侧壁的部分区域的间距大于最小间距;像素定义层与第一电极设于驱动背板的同一侧面,且分隔第一电极;发光层至少覆盖第一电极;第二电极覆盖发光层。本公开可降低相邻发光器件的串扰,改善显示效果。

技术领域

本公开涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种显示装置、显示面板及显示面板的制造方法。

背景技术

随着显示技术的发展,显示面板已经广泛的应用于手机等各种电子设备,用于实现图像显示。其中,采用发光二极管作为发光器件的显示面板的应用较为广泛。但是,现有显示面板中相邻的发光器件容易出现串扰,影响显示效果。

需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开提供一种显示装置、显示面板及显示面板的制造方法,可降低相邻发光器件的串扰,改善显示效果。

根据本公开的一个方面,提供一种显示面板,包括:

驱动背板;

多个第一电极,阵列分布于所述驱动背板一侧面;相邻两所述第一电极在所述驱动背板上的正投影的间距为最小间距;相邻两所述第一电极的侧壁的部分区域的间距大于所述最小间距;

像素定义层,与所述第一电极设于所述驱动背板的同一侧面,且分隔所述第一电极;

发光层,至少覆盖所述第一电极;

第二电极,覆盖所述发光层。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述第一电极的侧壁设有凹槽。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述第一电极包括沿远离所述驱动背板的方向依次堆叠的多个导电层,所述凹槽位于一所述导电层,且所述凹槽所处的导电层的材料与其它导电层的材料不同。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述第一电极的侧壁沿远离所述驱动背板的方向收缩或扩张。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述最小距离不不大于1μm。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述像素定义层的材料中包括硅-碳键和碳-碳键。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述像素定义层的材料包括碳氮化硅。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述像素定义层的介电常数不大于4。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述碳氮化硅中硅碳比不小于0.45,且不大于0.6。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述像素定义层包括沿远离所述驱动背板的方向依次堆叠的多个定义层,且至少一个所述定义层的材料为碳氮化硅。

在本公开的一种示例性实施方式中,所述定义层包括第一定义层和第二定义层,所述第一定义层堆叠于所述驱动背板一侧面,所述第二定义层设于所述第一定义层远离所述驱动背板的一侧;

所述第一定义层和所述第二定义层的材料均为碳氮化硅,所述第一定义层中的硅碳比高于所述第二定义层中的硅碳比。

根据本公开的一个方面,提供一种显示面板的制造方法,包括:

形成驱动背板;

在所述驱动背板一侧面形成多个阵列分布的第一电极;相邻两所述第一电极在所述驱动背板上的正投影的间距为最小间距;相邻两所述第一电极的侧壁的部分区域的间距大于所述最小间距;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211351102.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top