[发明专利]强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法

权利要求书

1.一种强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于包括如下步骤：(1)黏土矿物吸附技术：所述的黏土矿物吸附技术为在暗环境下将黏土矿物和胞外抗生素抗性基因混合均匀，在0.5-10小时后达到吸附平衡后，取上清液评估吸附作用对胞外抗生素抗性基因的去除效率；

(2)降解实验：吸附平衡后，再经过光照反应降解胞外抗生素抗性基因，所述光降解实验为黏土矿物吸附平衡后，在光照反应器中对混合液进行恒温加充分搅拌，在光照强度和光照波长反应下，实现对胞外抗生素抗性基因的光降解。

2.根据权利要求1所述的强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于：在步骤(1)中，所述的黏土矿物为高岭土、埃洛石或蒙脱石中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1所述的强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于：在步骤(1)中，在使用前首先通过简单的修饰使其带上饱和Na⁺后，然后通过冷干并过100目的筛网后进行分散保存，吸附实验中黏土矿物浓度为0-1g/L。

4.根据权利要求1所述的强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于：在步骤(1)中，所述的胞外抗生素抗性基因为细胞外游离抗生素抗性基因片段、携带抗生素抗性基因的质粒或具有抗生素抗性基因的基因组中的一种或几种的组合，其中抗生素抗性基因的浓度在10³-10⁸copies/L。

5.根据权利要求1所述的强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于：在步骤(2)中，所述的光照反应器为具有恒温和搅拌功能的光照反应器。

6.根据权利要求1所述的强化去除胞外抗生素抗性基因的水处理方法，其特征在于：在步骤(2)中，所述的光降解实验的光照强度为1-100mW/cm²，选用的光照波长为200-800nm。