[发明专利]一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法

权利要求书

1.一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，包括如下步骤：（1）在基板上镀制第一电极层和第一金属层，并将第一金属层图形化为扫描线、栅极和电极线，栅极电性连接扫描线，电极线电性连接第一电极层；（2）在基板、第一电极层和第一金属层的上表面设置绝缘层，绝缘层完全覆盖第一电极层和第一金属层；（3）在绝缘层的上表面镀制第二电极层和第二金属层，并利用金属蚀刻液对第二金属层进行湿法刻蚀，形成数据线、源极和漏极，使源极、漏极相对设置，源极电性连接数据线，漏极电性连接第二电极层；其特征在于还包括如下步骤：（4）在绝缘层的上表面镀制半导体层，使半导体层处在源极和漏极之间，并利用蚀刻液对其进行湿法刻蚀，形成有源层；（5）在第二金属层和有源层的上表面设置光敏树脂涂层，再进行干燥、预固化、曝光显影、固化后形成具有开口区域的保护层，第二电极层处在该开口区域内；（6）在所述保护层的上表面及其开口区域内侧设置定向层，使保护层及第二电极层被定向层所覆盖。

2.根据权利要求1所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（1）利用金属蚀刻液对第一金属层进行湿法刻蚀，将第一金属层图形化为所述的扫描线、栅极和电极线。

3.根据权利要求1所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（5）中所涂布的光敏树脂涂层采用黑色光敏树脂涂层，黑色光敏树脂涂层的厚度为1μm～5μm。

4.根据权利要求1所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（4）中采用的半导体层为IGZO薄膜；所述步骤（6）所涂布的定向层为PI定向层。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（5）中，在镀制第二电极层和第二金属层之前，先在绝缘层的上表面涂布第二隔离层，再将第二电极层镀制在第二隔离层之上。

6.根据权利要求5所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述第二隔离层上表面与所述保护层上表面的高度差小于或等于1μm。

7.根据权利要求5所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述第二隔离层是采用光敏树脂在绝缘层的上表面经涂布、固化而形成。

8.根据权利要求5所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述第二隔离层采用滤色膜。

9.根据权利要求5所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（1）中，在镀制第一电极层之前，先在基板上涂布垫高层，再在基板和垫高层之上镀制第一电极层，并使垫高层被第一电极层所覆盖。

10.根据权利要求1-4任一项所述的一种IPS液晶显示器的像素结构的制造方法，其特征在于：所述步骤（1）中，在镀制第一电极层之前，先在基板上涂布垫高层，再在基板和垫高层之上镀制第一电极层，并使垫高层被第一电极层所覆盖。