[发明专利]基于纳米压印的二维光栅板的制备方法

权利要求书

1.一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

①制作光栅结构及形状与目标二维光栅结构及形状相同的二维光栅母版(1)；

②在步骤①制备的二维光栅母版(1)的光栅表面镀制第一抗粘膜层(2)；

③然后第一在抗粘膜层(2)表面旋涂第一紫外纳米压印胶水层(3)，并使第一紫外纳米压印胶水层(3)外表面与第一在抗粘膜层(2)凸部顶面之间具有厚度；

④在步骤③的第一紫外纳米压印胶水层(3)外放置一层塑料薄膜层(4)，并用纳米压印技术将二维光栅母版(1)上的二维光栅复制到步骤③的第一紫外纳米压印胶水层(3)上，接着对第一紫外纳米压印胶水层(3)上的紫外纳米压印胶水进行紫外或热固化，然后再将与紫外纳米压印胶水层(3)固化在一起的塑料薄膜层(4)剥离，形成由第一紫外纳米压印胶水层(3)制成的具有反光栅结构的二维光栅工作模板；

⑤然后在步骤④得到的二维光栅工作模板上具有反光栅结构的一面镀制第二抗粘膜层(5)，接着继续在第二抗粘膜层(5)上沉积能完全将第二抗粘膜层(5)上的光栅结构完全覆盖的金属层(6)；

⑥取一抛光好且清洗干净的玻璃基板(7)，在其表面旋涂第二紫外纳米压印胶水层(8)；

⑦然后趁第二紫外纳米压印胶水层(8)未固化时，采用纳米压印技术，将步骤⑤的二维光栅工作模板上的金属层(6)与第二紫外纳米压印胶水层(8)紧密结合，并进行紫外固化；

⑧然后将具有反光栅结构的二维光栅工作模板剥离，形成基于纳米压印的二维光栅板。

2.根据权利要求1所述的一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：所述的二维光栅母版包括波导片和间隔凸设或凹设于波导片表面的多个形状相同的圆柱体、长方体、或者截面不规则的柱状体。

3.根据权利要求1所述的一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：步骤①的二维光栅母版采用激光全息光刻或电子束曝光技术结合刻蚀技术加工制得。

4.根据权利要求1所述的一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：步骤②的抗粘膜层由抗粘剂采用真空镀膜的方法沉积，它是一层超疏水膜层。

5.根据权利要求1所述的一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：所述的塑料薄膜为聚碳酸酯、聚酯或聚氯乙烯塑料。

6.根据权利要求1所述的一种基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，其特征在于：步骤⑦的金属膜采用真空镀膜的方式镀制，所述的金属采用Al、Ag或者Au。