[发明专利]微型显示器件制作方法、微型显示器件及微型显示装置

说明书

本发明提供了一种微型显示器件制作方法、微型显示器件及微型显示装置，对存在多个沟道和多个上表面涂覆有光刻胶的多个像素点的第一发光阵列单元涂布黑胶，使每个像素点的上表面均涂覆有光刻胶和黑胶，每个沟道只涂覆有黑胶，烘烤后，对每个像素点上表面涂覆的光刻胶和黑胶进行剥离，得到各个像素点之间的沟道内的黑胶形成黑色阵列的微型显示器件。该方式通过获取上表面涂覆有光刻胶的多个像素点的第一发光阵列单元；再在第一发光阵列单元上涂布黑胶，最后剥离每个像素点上表面涂覆的光刻胶和黑胶，保留各个沟道的黑胶，形成具有防串光效果的黑色阵列，可以无需通过识别Mark标记对涂布的黑胶进行曝光，即可形成黑色矩阵，得到微型显示器件。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种微型显示器件制作方法、微型显示器件及微型显示装置。

背景技术

近年来，微小型发光二极管(Micro-LED)显示技术由于在亮度、对比度、寿命、响应时间等方面存在显著的优势，受到业界的广泛关注。然而，Micro-LED技术仍然存在一些挑战，由于发光视角较大(1/2亮度视角160°)，相邻像素之间存在较大的光串扰风险，对显示器的显示色域具有不良影响。目前，行业内通过采用黑色阻光材料将彼此之间的发光像素点进行隔离，形成一种黑色矩阵，来消除相邻像素之间的光串扰。相关技术中，黑色矩阵工艺的位置精度低。

发明内容

本发明的目的在于提供微型显示器件制作方法及微型显示器件，以提高图案位置的精度。

本发明提供的一种微型显示器件制作方法，方法包括：

获取第一发光阵列单元；其中，第一发光阵列单元上存在以阵列形式排列的多个像素点，相邻的两个像素点之间存在沟道；每个像素点的上表面涂覆有光刻胶；

对第一发光阵列单元涂布黑胶，得到黑胶发光阵列单元；其中，黑胶发光阵列单元的每个像素点的上表面均涂覆有光刻胶和黑胶，各个像素点之间的沟道只涂覆有黑胶；

烘烤黑胶发光阵列单元；

对烘烤后的黑胶发光阵列单元中的每个像素点上表面涂覆的光刻胶和黑胶进行剥离，得到微型显示器件；其中，微型显示器件中，各个像素点之间的沟道内的黑胶形成黑色阵列

进一步的，获取第一发光阵列单元的步骤包括：

获取第二发光阵列单元；其中，第二发光阵列单元上存在以阵列形式排列的多个像素点，相邻的两个像素点之间存在沟道；

对第二发光阵列单元涂布光刻胶；

对涂布光刻胶后的第二发光阵列单元上的光刻胶进行曝光和显影处理，以使每个像素点的上表面涂覆有光刻胶，得到第一发光阵列单元。

进一步的，像素点至少包括自下而上依次设置的N型氮化镓层、发光层、P型氮化镓层；沟道中的黑胶的上表面高于像素点的发光层的上表面。

进一步的，沟道中的黑胶的上表面高于像素点的P型氮化镓层的上表面。

进一步的，对烘烤后的黑胶发光阵列单元中的每个像素点上表面涂覆的光刻胶和黑胶进行剥离，得到微型显示器件的步骤包括：

采用预设溶液处理烘烤后的黑胶发光阵列单元，以对烘烤后的黑胶发光阵列单元中的每个像素点上表面涂覆的光刻胶和黑胶进行剥离，得到微型显示器件。

进一步的，像素点的光刻胶的厚度与沟道中的黑胶的厚度的差值大于预设阈值，以使每个像素点上的黑胶与沟道中的黑胶不连续。

进一步的，预设阈值大于或等于1um。

进一步的，黑胶为负性光刻胶，且沟道中的黑胶的厚度大于或等于1.5um。

本发明提供的一种微型显示器件，微型显示器件采用上述任一项制作方法制成。