[发明专利]一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层在审

专利信息
申请号: 202211372461.2 申请日: 2022-11-01
公开(公告)号: CN115558966A 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 项腾飞;周军;张贺新;张世宏 申请(专利权)人: 中钢天源股份有限公司;安徽工业大学
主分类号: C25D5/00 分类号: C25D5/00;C25D3/12;H01F41/02
代理公司: 马鞍山市金桥专利代理有限公司 34111 代理人: 吴方舟
地址: 243000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 调控 磁场 烧结 钕铁硼 表面 沉积 镀层
【权利要求书】:

1.一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:

所述镍镀层的制备方法为直接用纯镍阳极和烧结钕铁硼阴极在磁场中进行电沉积;

所述镍镀层在烧结钕铁硼表面全部呈棱锥状致密分布,棱锥状的底面朝向烧结钕铁硼表面。

2.根据权利要求1所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述棱锥状相邻棱间的面为凸弧形面或平面,棱锥状的底面长度最大处小于3um。

3.根据权利要求1或2所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述磁场的强度为0.035~0.2T,阳极和阴极为平行设置的平板,电流I垂直于阳极和阴极板平面,磁场方向为B⊥I或B∥I。

4.根据权利要求3所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述镍镀层的电沉积在硫酸镍、氯化镍、硼酸和十二烷基苯磺酸钠混合溶液中进行。

5.根据权利要求4所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述硫酸镍溶液浓度340g/L,氯化镍溶液浓度45g/L,硼酸溶液浓度45g/L,十二烷基苯磺酸钠溶液浓度0.1g/L。

6.根据权利要求3所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述镍镀层的电沉积条件为,在50℃恒温下,电流密度4A/dm2电沉积1min,随后立即调节电流密度至2.5A/dm2并沉积30min。

7.根据权利要求3所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述磁场的强度为0.07T,磁场方向为B∥I。

8.根据权利要求1至7任意一项所述的一种通过调控磁场在烧结钕铁硼表面电沉积的镍镀层,其特征在于:所述镍镀层的制备方法中,电沉积前先对烧结钕铁硼阴极依次进行除油、除锈、活化的前处理,其中除油液为氢氧化钠、磷酸钠、碳酸钠和OP乳化剂依次溶解到去离子水中得到的溶液,除锈液通过稀释硝酸配置,活化液通过稀释盐酸配置。

9.根据权利要求1至8任意一项所述的镍镀层在烧结钕铁硼材料表面处理中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用,所述镍镀层用于提高镀层的致密性、耐腐蚀性能和耐温性能。

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