[发明专利]基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法

权利要求书

1.基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，包括步骤如下：

(1)将PMMA/石墨烯/无机非金属衬底置于含有非无机盐类固态干燥剂的封闭体系内静置；

(2)将干燥后的PMMA/石墨烯/无机非金属衬底置于带有吸水剂的乙醇钠-乙醇溶液静置；

(3)将PMMA/石墨烯/无机非金属衬底从溶液中取出并夹持，置于无水乙醇中超声清洗后吹干，即得负载于无机非金属衬底上的石墨烯薄膜。

2.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(1)中，所述PMMA/石墨烯/无机非金属衬底的制备方法为：将化学气相沉积法生长的金属基石墨烯进行裁剪、固定处理，旋涂PMMA后进行热固化，得到PMMA/石墨烯/金属基底；将PMMA/石墨烯/金属基底置于刻蚀液中刻蚀掉金属基底后捞取出；清洗PMMA/石墨烯薄膜并将其转移至无机非金属衬底，即得；

优选的，所述PMMA包括液体PMMA溶液和按任意质量分数配置的PMMA溶液。

3.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(1)中，所述无机非金属衬底为不与乙醇钠和乙醇发生化学反应的无机非金属衬底；优选的，包括但不限于Si/SiO₂、石英；

优选的，所述乙醇钠包括液体乙醇钠溶液和按任意质量分数配置的乙醇钠-乙醇溶液。

4.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(1)中，所述非无机盐类固态干燥剂包括但不限于变色硅胶干燥剂、粗孔硅胶干燥剂、细孔硅胶干燥剂、C型硅胶干燥剂。

5.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(1)中，所述静置，静置时间为0.5小时以上。

6.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(2)中，所述吸水剂包括但不限于碳酸钠、碳酸氢钠、氯化钙、硫酸镁、硫酸钠、硫酸铜；

优选的，所述碳酸钠为非水合结晶的碳酸钠粉末或颗粒；

优选的，所述碳酸氢钠为非水合结晶的碳酸氢钠粉末或颗粒。

7.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(2)中，所述乙醇钠-乙醇溶液中乙醇钠质量分数为1％-21％，优选为1％-5％；

优选的，所述乙醇钠包括液体乙醇钠溶液和按任意质量分数配置的乙醇钠-乙醇溶液。

8.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(2)中，所述静置，静置时间为0.5小时以上。

9.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(3)中，所述超声清洗的操作方式为：PMMA/石墨烯/无机非金属衬底完全被无水乙醇覆盖，夹持工具和PMMA/石墨烯/无机非金属衬底不接触超声开启后高频震动的容器，超声清洗一段时间后，更换无水乙醇再次重复该操作2-3次；

优选的，所述一段时间为≥2s。

10.根据权利要求1所述基于非溶剂体系去除石墨烯表面PMMA层的方法，其特征在于，(3)中，所述吹干具体为：使用非加热的惰性气体沿平行于衬底面方向吹干。