[发明专利]光酸产生剂、包括其的光致抗蚀剂组合物及使用光酸产生剂形成图案的方法

权利要求书

1.光酸产生剂，其包括在曝光时产生酸的单体和酸不稳定单体的共聚物，所述酸不稳定单体对于显影溶剂的溶解性通过经由酸的分解而改变，其中所述共聚物由式1表示：

[式1]

其中

x和y的摩尔比为1:1至1:5，并且所述共聚物的数均分子量(Mn)为500g/mol至5,000g/mol，

L为单键或者取代或未取代的C1-C20亚烷基，

A^-为磺酸阴离子或羧酸阴离子，

B⁺为未被取代或被卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的基于锍的阳离子、或者未被取代或被卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的基于碘鎓的阳离子，

R₁和R₂各自独立地为氢原子、卤素原子、或者取代或未取代的C1-C10烷基，

R₃为由式1-1和1-2表示的基团之一：

[式1-1]

*-C(＝O)O(L₁)_nR_a

[式1-2]

*-OR_b，

其中

L₁为未被取代或被C1-C5烷基取代的C1-C10亚烷基，

n为0-10的整数，

R_a为取代或未取代的C4-C20叔烷基、取代或未取代的C3-C50脂族环状基团、取代或未取代的C3-C60杂脂族环状基团、取代或未取代的C3-C60杂芳族环状基团、或-OC(＝O)OR_a1，其中R_a1为C1-C10烷基，

R_b为-Si(R_b1)(R_b2)(R_b3)或-C(R_b4)(R_b5)O(R_b6)，其中R_b1、R_b2、R_b3、R_b4、R_b5、和R_b6各自独立地为氢原子、C1-C10烷基、或C6-C20芳基，以及

*为结合位点。

2.如权利要求1所述的光酸产生剂，其中所述共聚物的多分散性指数(Mw/Mn，PDI)为1.0至3.0。

3.如权利要求1所述的光酸产生剂，其中B⁺包括由式2表示的基于锍的阳离子或由式3表示的基于碘鎓的阳离子：

其中

R₄、R₅和R₆的至少两个彼此结合并且与硫原子一起形成未被取代或被至少一个卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的环，或者R₄、R₅和R₆各自独立地为取代或未取代的C6-C60芳基，以及

R₇和R₈各自独立地为取代或未取代的C6-C60芳基或者取代或未取代的C6-C60杂芳基。

4.如权利要求1所述的光酸产生剂，其中B⁺包括未被取代或被至少一个卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的基于三苯基锍的阳离子、未被取代或被至少一个卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的基于噻吨酮的阳离子、或者未被取代或被至少一个卤素原子或C1-C20卤代烷基取代的基于二苯基碘鎓的阳离子。

5.如权利要求1所述的光酸产生剂，其中B⁺包括由式3-1至3-15表示的基于锍的阳离子或基于碘鎓的阳离子之一：

其中，在式3-1至3-15中，

X为卤素原子。