[发明专利]基于织物的可穿戴可调滤波器结构及制备方法在审
申请号: | 202211385781.1 | 申请日: | 2022-11-07 |
公开(公告)号: | CN115621690A | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 陆卫兵;陈昊;刘震国;耿明扬;陈照敏 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01P1/20 | 分类号: | H01P1/20;H01P11/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 沈廉 |
地址: | 211102 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 织物 穿戴 可调 滤波器 结构 制备 方法 | ||
1.一种基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:该滤波器包括共面波导与人工表面等离子体结构SSPP结构的阻抗匹配转换部分(1)、人工表面等离子体沟槽结构(2)、用于调控SSPP色散特性的沟槽结构附加路径(3)、用于实现高频隔离的上部偏置电路(4)、下部偏置电路(5)、织物衬底(6)、加载于人工表面等离子体沟槽结构(2)和沟槽结构附加路径(3)以及上部偏置电路(4)之间的有机电化学晶体管(7);该滤波器从左到右分三个部分,其中左边和右边分别为阻抗匹配转换部分(1),中间部分从上至下顺序为上部偏置电路(4)、沟槽结构附加路径(3)、人工表面等离子体沟槽结构(2)、下部偏置电路(5);有机电化学晶体管(7)的三个端分别连接人工表面等离子体沟槽结构(2)、沟槽结构附加路径(3)以及上部偏置电路(4)。
2.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:所述的阻抗匹配转换部分(1)分为上、中、下三个部分,上下部分为对称的喇叭开口状,中间部分是外宽内窄渐变的导带,在该导带上设有沟槽结构;上部偏置电路(4)有4个弹簧状结构,其下部位于沟槽结构附加路径(3)、人工表面等离子体沟槽结构(2)之间的间隙旁,下部偏置电路(5)有1个弹簧状结构,其上部连接人工表面等离子体沟槽结构(2)。
3.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:所述的阻抗匹配转换部分(1)、人工表面等离子体沟槽结构(2)、沟槽结构附加路径(3)、上部偏置电路(4)、下部偏置电路(5)均是由铜布加工而成的金属图案转移到织物衬底(6)上,有机电化学晶体管(7)则是先经过制备,利用点胶技术将离子凝胶(73)涂敷到人工表面等离子体SSPP沟槽结构(2)、沟槽结构附加路径(3)及上部偏置电路(4)之间。
4.根据权利要求3所述的基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:所述的有机电化学晶体管(7)包含第一PEDOT:PSS(71)、第二PEDOT:PSS(72),聚(3,4-乙烯二氧噻吩):聚(苯乙烯磺酸盐)PEDOT:PSS通过离子凝胶(73)涂敷于有机电化学晶体管(7)的栅极上以及源漏极之间。
5.根据权利要求4所述的基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:所述的离子凝胶(73)由聚乙烯醇、聚对苯乙烯磺酸钠、乙二醇、山梨糖醇、去离子水等物质按照1:3.3:1.2:0.8:10的质量比进行水浴搅拌而成。
6.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器,其特征在于:所述的织物衬底(6)选用材料的选择依据是损耗小,损耗角正切小于1×10-2。
7.一种如权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1:建模仿真,确定由阻抗匹配转换部分(1)、人工表面等离子体沟槽结构(2)、沟槽结构附加路径(3)、上部偏置电路(4)、下部偏置电路(5)组成的金属图案的结构参数及织物衬底(6)的结构、性质参数;
步骤2:所述金属图案的加工,将金属部分集成到织物衬底(6)上;
步骤3:制备有机电化学晶体管(7);
步骤4:打印有机电化学晶体管(7),完成器件制备。
8.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器的制备方法,其特征在于:步骤1中织物衬底(6)选用的是涤纶材料,该涤纶材料的厚度、相对介电常数及损耗角正切分别为0.42mm、1.801及2.21×10-3。
9.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器的制备方法,其特征在于:步骤2中金属图案的加工采用先切后转的方式,先利用激光切割机对铜布进行加工,再利用热释放胶带转移到织物衬底(6)上。
10.根据权利要求1所述的基于织物的可穿戴可调滤波器的制备方法,其特征在于:步骤4中打印有机电化学晶体管(7)使用的是打印机的点胶功能,打印过程中,开启打印机的加热功能,防止第一PEDOT:PSS(71),第二PEDOT:PSS(72)及离子凝胶(73)在织物衬底(6)上扩散。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211385781.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。