[发明专利]一种工业设备化学反应监测系统

权利要求书

1.一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，包括：

气体输送管道，用于输送样本气体；

调节组件，用于调节所述气体输送管道内的样本气体，使所述样本气体的参数与目标气体的参数相同；所述目标气体为工业现场下的气体；所述样本气体为对所述工业现场的气体进行样本采集得到的气体；

化学反应仿真室；所述化学反应仿真室的进气口与所述气体输送管道连通；所述化学反应仿真室具有容纳所述样本气体与目标物进行化学反应的空间；所述目标物包括：在所述工业现场能够与所述目标气体发生化学反应的有机物或者无机物；

探测组件，设置在所述化学反应仿真室上，用于采集所述样本气体与所述目标物发生化学反应时的反应数据；其中，所述探测组件至少包括：视频采集设备和温度采集设备；所述反应数据至少包括视频数据和温度数据；所述视频采集设备的采样频率和温度采集设备的采样频率相同；

反应气体参数测量室，与所述化学反应仿真室的出气口连接；所述反应气体参数测量室用于确定反应气体的组分数据；所述反应气体为所述样本气体与所述目标物发生化学反应后的气体；

计算机组件，用于根据所述反应数据，确定所述目标物的化学反应监测结果；所述化学反应监测结果至少包括：多个时间点以及每个时间点对应的视频数据、温度数据和组分数据。

2.根据权利要求1所述的一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，所述调节组件包括抽气泵组件、温度调节组件以及第一气体缓冲器；

所述抽气泵组件设置在所述气体输送管道的一端；所述温度调节组件套接在所述气体输送管道的外表面和所述第一气体缓冲器的外表面；

所述第一气体缓冲器开设有第一进气口和第一出气口；所述第一进气口与所述气体输送管道的另一端连通，所述第一出气口与所述化学反应仿真室的进气口连通。

3.根据权利要求2所述的一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，所述抽气泵组件包括抽气泵、样本气体阀门和压力传感器；

所述抽气泵，设置在所述气体输送管道的一端，用于抽取样本气体；

所述压力传感器，设置在所述气体输送管道上，用于采集所述样本气体的压力；

所述计算机组件，还用于将所述样本气体的压力与目标气体的压力进行比较，并根据比较结果向所述样本气体阀门输出第一工作指令；

所述第一工作指令用于控制所述样本气体阀门的开度，以使所述样本气体的压力与目标气体的压力相同。

4.根据权利要求2所述的一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，所述温度调整组件包括多个电伴热管；多个所述电伴热管分段式套接在所述气体输送管道的外表面和所述第一气体缓冲器的外表面，且在所述气体输送管道的外表面上相邻的所述电伴热管的间距相等，在所述第一气体缓冲器的外表面上相邻的所述电伴热管的间距相等。

5.根据权利要求2所述的一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，还包括位于所述第一气体缓冲器顶部的第一温度变送器；

所述第一温度变送器用于采集样本气体的温度；

所述计算机组件，还用于将所述样本气体的温度与所述目标气体的温度进行比较，并根据比较结果向所述温度调节组件输出第二工作指令；所述第二工作指令用于指示电伴热管的运行策略，以使所述样本气体的温度与目标气体的温度相同。

6.根据权利要求2所述的一种工业设备化学反应监测系统，其特征在于，所述化学反应仿真室包括外壳以及设置在所述外壳中的温控平台；

所述外壳为一三通阀结构；其中，在所述外壳的第一端口上安装有透明盖片，所述外壳的第二端口为所述化学反应仿真室的进气口，所述外壳的第三端口为所述化学反应仿真室的出气口；

所述温控平台用于输送温控介质和承载所述目标物；所述温控介质用于调节所述目标物表面的温度；

其中，所述温控介质流动方向与所述样本气体流动方向相反。