[发明专利]一种具有多层结构的光学氟素离型膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202211399545.5 申请日: 2022-11-09
公开(公告)号: CN115612147B 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 鹿立松 申请(专利权)人: 惠州市鑫亚凯立科技有限公司
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C09D129/10;C09D133/16
代理公司: 深圳维启专利代理有限公司 44827 代理人: 魏坤宇
地址: 516800 广东省惠州市龙门县惠*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 具有 多层 结构 光学 氟素离型膜 及其 制造 方法
【说明书】:

本申请涉及离型膜技术领域,具体公开了一种具有多层结构的光学氟素离型膜及其制造方法。一种具有多层结构的光学氟素离型膜包括PET基材以及设置在PET基材表面的氟素离型层1、氟素离型层2;按重量份数,氟素离型层1包括有:改性氟素离型剂30%~50%、交联剂0.2%~5%、UV光引发剂0.1%~3%,其余为氟碳树脂;氟素离型层2包括有:改性氟素离型剂30%~50%、交联剂0.2%~5%、热催化剂0.1%~3%,其余为氟碳树脂;改性氟素离型剂的制备是10‑羟基癸烯酸与甲基丙烯酸十二庚酯在Ziegler‑Natta催化剂、十二硫醇的催化下进行反应,从而提高氟素离型膜的抗刮性。

技术领域

本申请涉及离型膜技术领域,更具体地说,它涉及一种具有多层结构的光学氟素离型膜及其制造方法。

背景技术

离型膜是指表面具有分离性的薄膜,离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性,或轻微的粘性。

离型膜广泛应用于胶粘制品、模切冲型加工等行业。离型膜包括硅油离型膜和氟素离型膜等,随着有机硅压敏胶在电子电路、医疗、光学、通讯等领域的应用,有机硅压敏胶的模切加工领域中离型膜的使用也逐渐增加。硅油离型膜会与有机硅压敏胶发生反应发生硅转移,使得有机硅压敏胶失去粘性,因此,在有机硅压敏胶的模切中使用的为氟素离型膜。

氟素离型膜是指将氟素离型剂涂布在PET基材表面、固化后得到的离型膜。氟素离型膜具有超轻的离型力,离型力范围在1~5g/inch。在有机硅压敏胶的模切加工过程中,需要将氟素离型膜沾附在有机硅压敏胶的表面,对有机硅压敏胶进行保护。在使用转辊将氟素离型膜摊开时,会造成氟素离型层刮伤,氟素离型层刮伤把氟素离型层刮破露出基材材料。在以氟素离型膜的氟素离型膜层为基体涂覆有机硅压敏胶时,有机硅压敏胶会与基材直接接触,进而使得有机硅压敏胶与基材相粘连不易分开,造成氟素离型膜的离型效果变差。

发明内容

为了减少氟素离型膜的氟素离型层被刮伤,从而导致氟素离型膜的离型力大的情况,本申请提供一种具有多层结构的光学氟素离型膜及其制造方法。

本申请提供的一种具有多层结构的光学氟素离型膜采用如下的技术方案:

一种具有多层结构的光学氟素离型膜,包括PET基材以及设置在PET基材表面的氟素离型层1和氟素离型层1上设置的氟素离型层2,按重量份数,所述氟素离型层1包括有以下组分:改性氟素离型剂30%~50%、交联剂0.2%~5%、UV光引发剂0.1%~3%,其余为氟碳树脂;所述氟素离型层2包括有以下组分:改性氟素离型剂30%~50%、交联剂0.2%~5%、热催化剂0.1%~3%,其余为氟碳树脂;

按重量分数,所述改性氟素离型剂包括有以下制备原料:甲基丙烯酸十二庚酯30%~40%、10-羟基癸烯酸10%~15%、过硫酸铵0.3%~0.6%、Ziegler-Natta催化剂0.1%~1.5%、十二硫醇0.1%~1%、乳化剂2%~2.5%、标准pH缓冲剂0.1%~0.55%,其余为去离子水;所述改性氟素离型剂的制备方法如下:将过硫酸铵与25%~30%的去离子水混合均匀配置成过硫酸铵水溶液;将甲基丙烯酸十二庚酯、75%~80%的乳化剂,与剩余的去离子水混合均匀,得到甲基丙烯酸十二庚酯预备液;将15%~20%甲基丙烯酸十二庚酯预备液、30%~35%的过硫酸铵水溶液、剩余的乳化剂、标准pH缓冲剂、与40%~50%的去离子混合均匀,加热反应25min~35min得到中间反应液;将十二硫醇、Ziegler-Natta催化剂加入到中间反应液中混合均匀,再将10-羟基癸烯酸和剩余的甲基丙烯酸十二庚酯预备液混合均匀滴加到中间反应液中的同时把剩余的过硫酸铵水溶液滴也加到中间反应液中,升高温度至85℃~90℃,反应1h~1.5h,降温至45℃以下,调节pH为弱碱性,过滤出料,得到改性氟素离型剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州市鑫亚凯立科技有限公司,未经惠州市鑫亚凯立科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211399545.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top