[发明专利]一种红外长波高反膜、制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202211407071.4 申请日: 2022-11-10
公开(公告)号: CN115903110A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 戴辉;尹士平;刘克武;郭晨光;王奎 申请(专利权)人: 安徽光智科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B5/28;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/58
代理公司: 滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙) 34167 代理人: 史芳
地址: 239000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 红外 长波 高反膜 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种红外长波高反膜,其特征在于:所述高反膜的膜系结构依次为:基底/金/硫化锌/锗/硫化锌/锗/空气,其膜系结构具体厚度为:基底/金为170~190nm/硫化锌为1155~1195nm/锗为642~682nm/硫化锌为1178~1218nm/锗为642~682nm/空气。

2.根据权利要求1所述的一种红外长波高反膜,其特征在于,所述膜系结构具体厚度为:基底/金为180nm/硫化锌为1175nm/锗为662nm/硫化锌为1198nm/锗为662nm/空气。

3.根据权利要求1所述的一种红外长波高反膜,其特征在于,所述基底为铜、硅或钼中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的一种红外长波高反膜,其特征在于,所述高反膜采用真空蒸发镀膜制得。

5.根据权利要求1~4中任意一项所述的一种红外长波高反膜的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

S01:对基底材料进行清洗;

S02:将镀膜机真空抽至1.5*10-3Pa以下压力,加热至150~180℃;

S03:在镀膜机内对基底材料进行离子清洗;

S04:按照膜系结构及厚度依次进行镀膜处理;

S05:镀膜完成后,保持温度150~180℃,加热老化膜层。

6.根据权利要求5所述的一种红外长波高反膜的制备方法,其特征在于,所述S04中镀金膜和硫化锌膜时,采用蒸发舟电阻加热方式镀膜,镀锗膜时采用电子束加热蒸发方式镀膜。

7.根据权利要求5所述的一种红外长波高反膜的制备方法,其特征在于,所述S04中镀金膜和硫化锌膜时,均采用离子源辅助镀膜。

8.根据权利要求5所述的一种红外长波高反膜的制备方法,其特征在于,所述S04中锗的镀膜速率为0.3~0.5nm/s,硫化锌的镀膜速率为0.4~0.9nm/s。

9.根据权利要求5所述的一种红外长波高反膜的制备方法,其特征在于,所述S05中的加热时间为20~40min。

10.一种基于权利要求1~4中任一项所述的红外长波高反膜的应用,其特征在于:所述红外长波高反膜在红外激光系统、太阳能电池上的应用。

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