[发明专利]一种基于聚集诱导发光的温敏性聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种基于聚集诱导发光的温敏性聚合物，其特征在于，结构式如下：

其中，x,y为结构单元的摩尔比，x为整数且0＜x＜100,y为整数且0＜y＜100，n为所述温敏性聚合物的聚合度且n＞0，z为烷基或苯基，R为异丙苯基或氰异苯基。

2.如权利要求1所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物，其特征在于，所述温敏性聚合物的重均分子量为5000-10000。

3.一种制备如权利要求1或2所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的方法，其特征在于，包括如下步骤：以6-(乙烯基苯基)-1，3，5-三嗪-2，4-二胺和丙烯酰胺为原料，通过可逆加成—断链转移法，以RAFT试剂进行封端，得到基于聚集诱导发光的温敏性聚合物。

4.如权利要求3所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于，所述制备方法具体包括如下步骤：以6-(乙烯基苯基)-1，3，5-三嗪-2，4-二胺和丙烯酰胺为单体，反应时先将单体与RAFT试剂加入溶剂中溶解得到反应溶液，然后加入引发剂进行充分反应得到基于聚集诱导发光的温敏性聚合物。

5.如权利要求4所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于，RAFT试剂用量为单体总摩尔数的0.33-1％。

6.如权利要求4所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于，引发剂用量为单体总摩尔数的0.1-0.3％；

和/或，所述引发剂选自偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈、偶氮二异庚腈、偶氮异丁氰基甲酰胺、偶氮二环己基甲腈、偶氮二异丁酸二甲酯中的一种。

7.如权利要求4所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于，溶剂选自二甲基亚砜或N,N-二甲基亚酰胺。

8.如权利要求4所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于，反应溶液中的单体浓度为0.5-1g/ml。

9.根据权利要求4所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物的制备方法，其特征在于：加入引发剂后，先进行脱氧再进行充分反应；

和/或，反应温度为60-70℃，反应时间大于24h。

10.一种如权利要求1或2所述的基于聚集诱导发光的温敏性聚合物在信息防伪、荧光温度计、制备药物释放中的应用。