[发明专利]一种X光机曝光剂量控制方法及电子装置

权利要求书

1.一种X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，包括：

在曝光的第N帧，X射线发出后检测MA反馈值并与工作站下发MA值比较，获得MA误差值，N大于等于1；

若MA误差值小于或等于0.1倍工作站下发MA值，则不进行MA的校准；若MA误差值大于0.1倍工作站下发MA值，且小于0.3倍工作站下发MA值，则采用积分分离PID控制算法修正MA，若MA误差值大于或等于0.3倍工作站下发MA值，则发出报警信息给工作站。

2.根据权利要求1所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，若所述第N帧曝光结束，积分分离PID控制算法未完成MA值修正，则以设定时间增加曝光一次，以使得积分分离PID控制算法完成MA值修正。

3.根据权利要求1所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，所述积分分离PID控制算法中，

设定阈值为0.15倍工作站下发MA值，当MA误差值大于阈值时，采用PD控制；当MA误差值小于或等于阈值时，则采用PID控制。

4.根据权利要求3所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，

积分分离PID控制算法的公式表示如下：

式中，error(k)为当前MA误差值；

j是积分次数，error(j)为第j次积分的MA误差值；

k_i为积分系数；

k_d是微分系数，

u(k)为调节后的MA误差值；T为采样时间，β项为积分项的开关系数，当|error(k)|≤阈值，β＝1；当|error(k)|＞阈值，β＝0；

kp为比例系数；ki为积分系数；kd为微分系数。

5.根据权利要求1所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，所述第N帧为第1帧。

6.根据权利要求1所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，所述X射线发出后检测MA反馈值并与工作站下发MA值比较，是指在X射线发出1ms后检测MA反馈值并与工作站下发MA值比较。

7.根据权利要求2所述的X光机曝光剂量控制方法，其特征在于，所述设定时间为3ms。

8.一种电子装置，其特征在于，包括处理器以及与其连接的存储器，所述存储器中存储有X光机曝光剂量控制程序，所述处理器运行所述X光机曝光剂量控制程序时，执行权利要求1至7中任一项所述的X光机曝光剂量控制方法。