[发明专利]一种光学薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学薄膜，其特征在于，自下而上，由光学膜基膜、高折射率层、低折射率层组成；

其中，低折射率层其原料按照质量百分比计，包括：

低折射率光固化树脂70％-90％；

二氧化硅1％-20％；

光引发剂1％-9％；

助剂0.5％-5％；

所述低折射率光固化树脂为折射率在1.30-1.45之间；

所述低折射率光固化树脂为含硅或含氟或者同时含有硅、氟的丙烯酸酯。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述低折射率光固化树脂为MYpolymer的MY-133、MY-136、MY-1375、MY-138、MY-139、MY-140、MY-141、MY-1455、MY-147、MY-148中的一种；或

为NTT-AT的18204、18114中的一种；或

为Luvantix公司的SH-370、SH-373、SH-380、SH-393、SH-437中的一种。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述二氧化硅平均粒径为0.5-10微米。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述低折射率层的厚度为155±35纳米。

5.根据权利要求1-4任一所述的光学薄膜，其特征在于，所述高折射率层其原料按照质量百分比计，包括：

高折射率光固化树脂35％-85％；

高折射率无机纳米粒子10％-60％；

光引发剂1％-10％；

助剂1％-5％

所述高折射率光固化树脂的折射率在1.55以上；所述高折射率无机纳米粒子的折射率在1.70-3.40；

所述高折射率无机纳米粒子的粒径D50在1-100纳米之间；D97小于400纳米。

6.根据权利要求5所述的光学薄膜，其特征在于，所述高折射率光固化树脂为NTT-AT的18210或18274；或为Sartomer的CN9167或CN153；

所述高折射率无机纳米粒子包括氧化锆、片状无定形氧化铝；

所述光引发剂包括自由基型光引发剂、阳离子类引发剂；

其中所述自由基型光引发剂包括：alpha羟基酮类、苯甲酰类、alpha氨基酮类、磷氧化物类、二苯甲酮类、硫杂蒽酮类中的一种。

7.根据权利要求5所述的光学薄膜，其特征在于，所述高折射率层的厚度为290±90纳米。

8.根据权利要求5所述的光学薄膜，其特征在于，所述助剂为流平剂、润湿剂、消泡剂中的一种或几种；

所述流平剂为：海名斯Levoslip432、海名斯Levoslip836、海名斯Levoslip876、BYK310、BYK306、BYK300、TEGO450和TEGO 4000中任意一种或两种以上；

所述分散剂为路博润32500、路博润87000、路博润41000、BYK2159、BYK2150和海名斯disponer9250中任意一种或两种以上；

所述消泡剂选自BYK051。

9.根据权利要求5所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学基膜为PET、PMMA、TAC或PC光学膜。

10.一种光学薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

配制低折射率层涂覆液：将二氧化硅均匀分散在乙酸乙酯和乙酸丁酯的混合液中，配置成二氧化硅分散液；然后将所述二氧化硅分散液与所述低折射率光固化树脂、光引发剂、助剂混按比例混合，最终得到所述低折射率层涂覆液；

配制高折射率层涂覆液：将高折射率无机纳米粒子均匀分散在乙酸乙酯和乙酸丁酯的混合液中，配置成无机纳米粒子分散液；然后将所述无机纳米粒子分散液与高折射率光固化树脂、光引发剂和助剂按比例混合，最终得到所述高折射率层涂覆液；

将所述高折射率层涂覆液涂覆在光学膜基膜上，烘干溶剂，在UV灯下进行固化；辐射能量为400～2000mJ/cm²，涂膜厚度为250-350纳米；

再将所述低折射率层涂覆液涂覆在高折射率层上，烘干溶剂，在UV灯下进行固化；辐射能量为400～2000mJ/cm²，涂膜厚度为120-150纳米。