[发明专利]超高衍射效率光栅

权利要求书

1.一种超高衍射效率光栅，其特征在于，包括：

基底层；

光栅层，设置于所述基底层上，在所述光栅层内设置有光栅；

填充层，采用填充材料将所述光栅层的镂空填平，并在所述光栅层的表面形成表面平整的所述填充层；

增透层，设置于所述填充层上，用于提高衍射效率。

2.如权利要求1所述的超高衍射效率光栅，其特征在于，所述增透层采用镀介质膜的方式制备。

3.如权利要求1所述的超高衍射效率光栅，其特征在于，作为透射光栅使用时，所述基底层的底部与空气的接触界面还设置有所述增透层，在所述填充层上方和/或所述光栅层下方设置有相位匹配层，光子在发生反射时，相位匹配层使反射的光子相位叠加相消。

4.如权利要求1所述的超高衍射效率光栅，其特征在于，作为反射光栅使用时，所述基底层与所述光栅层中间还设置有反射层，用于反射光子，增大反射效率，在所述填充层上方和/或所述光栅层下方设置有相位匹配层，光子在发生透射时，相位匹配层使透射的光子相位叠加相消。

5.如权利要求4所述的超高衍射效率光栅，其特征在于，所述反射层的上表面还设置有相位匹配层，光子在发生透射时，相位匹配层使透射的光子相位叠加相消。

6.如权利要求1所述的超高衍射效率光栅，其特征在于，通过半导体工艺对所述光栅层、所述填充层和所述增透层进行制备。