[发明专利]化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

权利要求书

1.一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：

(A)聚合物P，其因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含下式(A1)表示的具有含有含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元、及下式(C1)～(C4)中的任一者表示的因曝光而产酸的重复单元；

(B)鎓盐型淬灭剂；及

(C)溶剂；

式中，R^A为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或*-C(＝O)-O-Z^A1-，Z^A1为也可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～20的脂肪族亚烃基、或为亚苯基或亚萘基，*表示和主链中的碳原子的原子键，R^B及R^C各自独立地为也可以含有杂原子的碳数1～10的烃基，也可R^B与R^C互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环，R¹各自独立地为氟原子、碳数1～5的氟化烷基或碳数1～5的氟化烷氧基；R²各自独立地为也可以含有杂原子的碳数1～10的烃基，n1为1或2的整数；n2为0～5的整数；n3为0～2的整数，

式中，R^A同前述，Z¹为单键或亚苯基，Z²为*-C(＝O)-O-Z²¹-、*-C(＝O)-NH-Z²¹-或*-O-Z²¹-，Z²¹为碳数1～6的脂肪族亚烃基、亚苯基或它们组合而获得的2价基团，也可含有羰基、酯键、醚键或羟基，Z³为单键、亚苯基、亚萘基或*-C(＝O)-O-Z³¹-，Z³¹为也可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～10的脂肪族亚烃基、或为亚苯基或亚萘基，Z⁴为单键或*-Z⁴¹-C(＝O)-O-，Z⁴¹为也可以含有杂原子的碳数1～20的亚烃基，Z⁵为单键、亚甲基、亚乙基、亚苯基、氟化亚苯基、经三氟甲基取代的亚苯基、*-C(＝O)-O-Z⁵¹-、*-C(＝O)-N(H)-Z⁵¹-或*-O-Z⁵¹-，Z⁵¹为碳数1～6的脂肪族亚烃基、亚苯基、氟化亚苯基或经三氟甲基取代的亚苯基，也可含有羰基、酯键、醚键或羟基；*表示和主链中的碳原子的原子键，R²¹及R²²各自独立地为也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基，又，R²¹与R²²也可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环，L¹为单键、醚键、酯键、羰基、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键，Rf¹及Rf²各自独立地为氟原子或碳数1～6的氟化烷基，Rf³及Rf⁴各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化烷基，Rf⁵及Rf⁶各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化烷基，但不会全部Rf⁵及Rf⁶同时成为氢原子，M^-为非亲核性相对离子，A⁺为鎓阳离子，c为0～3的整数。

2.根据权利要求1所述的化学增幅抗蚀剂组成物，其中，式(A1)表示的重复单元以下式(A2)表示，

式中，R^A、Z^A、R^B、R^C、R¹、R²、n1及n2同前述。

3.根据权利要求2所述的化学增幅抗蚀剂组成物，其中，R¹为氟原子、三氟甲基或三氟甲氧基。