[发明专利]能量场三维打印系统在审
申请号: | 202211463539.1 | 申请日: | 2019-01-13 |
公开(公告)号: | CN115946343A | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | J·S·卡拉夫 | 申请(专利权)人: | 光场实验室公司 |
主分类号: | B29C64/135 | 分类号: | B29C64/135;B29C64/282;B29C64/393;B29C64/20;B29C64/255;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02;B33Y70/10;G02B6/00;G02B6/10 |
代理公司: | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人: | 高静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能量 三维 打印 系统 | ||
1.一种三维打印系统,包括:
打印介质容器,其被配置成容纳一定量的打印介质;
能量源系统,其被配置成向多个能量位置提供能量并且包括多个能量源;
至少一个能量引导系统,其中每个能量引导系统包括;
波导阵列,其被配置成沿着多个传播路径引导来自所述多个能量位置的能量,其中每个传播路径延伸穿过多个能量位置中的一个;和
其中每个波导被配置成沿着所述多个传播路径将来自所述多个能量位置的能量引导穿过所述波导,其中每个传播路径在至少由所述多个能量位置中的一个确定的唯一方向上从所述波导延伸;
控制系统,其与所述能量源系统通信且被配置成通过操作所述多个能量源以沿着所述多个传播路径提供能量来使所述至少一个能量引导系统的所述波导阵列将阈值强度水平的能量递送到所述多个传播路径的多个相交点中的多个选定相交点;
其中所述打印介质被配置成当暴露于所述阈值强度水平的能量时反应;和
其中所述多个选定相交点限定所述容器内部的三维(“3D”)对象的多个内表面和外表面。
2.根据权利要求1所述的三维打印系统,其中所述打印介质容器搁置在与所述控制系统通信的定位装置的基座上,其中所述控制系统被配置成操作所述定位装置以改变所述打印介质容器相对于所述至少一个能量引导系统的位置。
3.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置的所述操作使所述多个选定相交点相对于所述打印介质容器移动,以进一步限定所述三维对象的所述多个内表面和外表面。
4.根据权利要求3所述的三维打印系统,其中当所述定位装置使所述多个选定相交点相对于所述打印介质容器移动时,所述多个选定相交点使所述打印介质暴露于所述阈值能量水平。
5.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括机动平移台。
6.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括线性平移台。
7.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括旋转台。
8.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括测角台。
9.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括倾斜台。
10.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述定位装置包括5轴台,所述5轴台包括三个平移台和两个旋转台。
11.根据权利要求2所述的三维打印系统,其中所述多个选定相交点的安置体积大体上小于所述打印容器的体积。
12.根据权利要求1所述的三维打印系统,其中所述控制系统能操作以使所述至少一个能量引导系统移动,从而使所述多个选定相交点移动,以进一步限定所述三维对象的所述多个内表面和外表面。
13.根据权利要求12所述的三维打印系统,其中随着所述多个选定相交点移动,所述多个选定相交点使所述打印介质暴露于所述阈值能量。
14.根据权利要求1所述的三维打印系统,其中所述多个选定相交点的安置体积大体上小于所述打印容器的所述体积。
15.根据权利要求1所述的三维打印系统,其中所述控制系统被配置成操作所述多个能量源,以将递送到所述多个选定相交点中的至少一个选定相交点的能量减小到所述阈值强度水平以下。
16.根据权利要求1所述的三维打印系统,其中所述控制系统被配置成将至少一个选定相交点添加至所述多个选定相交点,具体是通过操作所述多个能量源以将递送到所述至少一个添加的选定相交点的所述能量增大到所述阈值强度水平。
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