[发明专利]纳米压印母模的修复方法

权利要求书

1.一种纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；

所述方法包括：

将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；

使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶；

使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。

2.根据权利要求1所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述碱性清洗液包括：2％-4％的油酸钠、8％-12％的碳酸钠、10％-14％的氢氧化钠、1％-6％的甘油以及64％-79％的水。

3.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:30～2:35。

4.根据权利要求3所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:33。

5.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模的浸泡温度为40℃～55℃。

6.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模的浸泡时间为15min～25min。

7.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模为超声浸泡。

8.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗为超声清洗；清洗的时间为5～8min。

9.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗之后，所述方法还包括：

对所述纳米压印母模进行烘干处理。

10.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗之后，所述方法还包括：

对所述纳米压印母模进行测试，判断清洗结果是否合格；若不合格，则使用高压水枪对所述纳米压印母模进行清洗。