[发明专利]一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备在审
申请号: | 202211490416.7 | 申请日: | 2022-11-25 |
公开(公告)号: | CN115835555A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 闵捷;王文东;夏利峰;金彦;夏勇;田乔;刘德智;梁靖;董晨星 | 申请(专利权)人: | 联宝(合肥)电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K5/02 | 分类号: | H05K5/02;H05K5/04;B44C1/22;B24C11/00;B24C1/00;C23F3/00;C25D11/02 |
代理公司: | 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 陈婷婷 |
地址: | 230601 安徽省合肥市经济技*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 立体 图案 金属 壳体 及其 制备 方法 电子设备 | ||
1.一种具有立体图案的金属壳体的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
对金属壳体表面进行喷砂处理;
对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理,不同区域的镭雕方向不同;
对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化,得到具有立体图案的金属壳体。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理,不同区域的镭雕方向不同,包括:
对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕,以形成漫反射纹理和镜面反射纹理。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形成漫反射纹理的镭雕参数为:760nm≤波长≤1650nm,60W≤功率≤80W,1200mm/s≤镭雕速度≤2000mm/s,0.05mm≤镭雕线宽≤0.11mm。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形成镜面反射纹理的镭雕参数为:960nm≤波长≤1250nm,85W≤功率≤100W,600mm/s≤镭雕速度≤1000mm/s,0.01mm≤镭雕线宽≤0.03mm。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述喷砂的型号为铁砂、锆砂、玻璃砂中的一种或多种,喷砂压力为2-4kg,线速为1m/12s。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化,得到具有立体图案的金属壳体,包括:
清洗镭雕后的金属壳体,以除去金属壳体表面的油污;
再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗;
以金属壳体作为阳极,对金属壳体表面进行氧化,水洗后进行染色或电解着色,再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对金属壳体表面进行喷砂处理前,该方法还包括:
对金属壳体表面进行冲压打磨,以提高金属壳体表面的光洁度。
8.一种根据权利要求1-7任一项所述方法制备的金属壳体。
9.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求8所述的金属壳体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联宝(合肥)电子科技有限公司,未经联宝(合肥)电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211490416.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。