[发明专利]一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备在审

专利信息
申请号: 202211490416.7 申请日: 2022-11-25
公开(公告)号: CN115835555A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 闵捷;王文东;夏利峰;金彦;夏勇;田乔;刘德智;梁靖;董晨星 申请(专利权)人: 联宝(合肥)电子科技有限公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;H05K5/04;B44C1/22;B24C11/00;B24C1/00;C23F3/00;C25D11/02
代理公司: 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 代理人: 陈婷婷
地址: 230601 安徽省合肥市经济技*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 立体 图案 金属 壳体 及其 制备 方法 电子设备
【权利要求书】:

1.一种具有立体图案的金属壳体的制备方法,其特征在于,所述方法包括:

对金属壳体表面进行喷砂处理;

对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理,不同区域的镭雕方向不同;

对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化,得到具有立体图案的金属壳体。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理,不同区域的镭雕方向不同,包括:

对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕,以形成漫反射纹理和镜面反射纹理。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形成漫反射纹理的镭雕参数为:760nm≤波长≤1650nm,60W≤功率≤80W,1200mm/s≤镭雕速度≤2000mm/s,0.05mm≤镭雕线宽≤0.11mm。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形成镜面反射纹理的镭雕参数为:960nm≤波长≤1250nm,85W≤功率≤100W,600mm/s≤镭雕速度≤1000mm/s,0.01mm≤镭雕线宽≤0.03mm。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述喷砂的型号为铁砂、锆砂、玻璃砂中的一种或多种,喷砂压力为2-4kg,线速为1m/12s。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化,得到具有立体图案的金属壳体,包括:

清洗镭雕后的金属壳体,以除去金属壳体表面的油污;

再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗;

以金属壳体作为阳极,对金属壳体表面进行氧化,水洗后进行染色或电解着色,再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对金属壳体表面进行喷砂处理前,该方法还包括:

对金属壳体表面进行冲压打磨,以提高金属壳体表面的光洁度。

8.一种根据权利要求1-7任一项所述方法制备的金属壳体。

9.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求8所述的金属壳体。

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