[发明专利]轻薄型电磁阻隔材料及其制备方法

权利要求书

1.一种轻薄型电磁阻隔材料，其特征在于：该电磁阻隔材料的厚度≤4.8mm；该材料包括由下至上依次层叠设置的第一介质层、第一电阻膜层，第二介质层和第二电阻膜层，各层之间通过胶膜粘接；第一介质层的厚度≤2.0mm，第二介质层的厚度≤2.5mm。

2.根据权利要求1所述的材料，其特征在于：所述第一介质层和第二介质层均为泡沫材料层，泡沫材料为PMI泡沫、PVC泡沫、PET泡沫或PU泡沫中的一种。

3.根据权利要求1所述的材料，其特征在于：所述第一电阻膜层及第二电阻膜层均设有基材层和电阻材料层；至少在第二电阻膜层的电阻材料层上设置耐撞击处理层；耐撞击处理层为聚脲层。

4.根据权利要求3所述的材料，其特征在于：所述基材为PI或者PET材质。

5.根据权利要求1所述的材料，其特征在于：所述第一电阻膜层的方块电阻值为75Ω/sq-105Ω/sq。

6.根据权利要求1所述的材料，其特征在于：所述第二电阻膜层的方块电阻值为40Ω/sq-60Ω/sq。

7.根据权利要求1~6任意一项所述的材料，其特征在于：所述胶膜为环氧胶膜。

8.权利要求1~7任意一项所述材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、采用丝网印刷方式在基材层上分别印制电阻材料层制备第一电阻膜层和第二电阻膜层，其中第二电阻膜层的电阻材料层上还喷涂或者刷涂耐撞击处理层；

S2、对第一介质层和第二介质层分别进行打孔及吹尘处理；

S3、在第一介质层铺上一层胶膜，然后将第一电阻膜层铺在胶膜上，电阻材料层朝下；

S4、在S3中的第一电阻膜层上铺第二介质层，然后铺一层胶膜，最后将第二电阻膜铺在胶膜上，耐撞击处理层朝下；

S5、将S4所得材料进行固化，最后进行裁切和封边处理，即得轻薄型电磁阻隔材料。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：S5中裁切时采用雕刻机进行操作。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：S5中封边时采用柔性聚氨酯改性环氧树脂对电磁阻隔材料进行封边处理。