[发明专利]内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统

说明书

本发明公开了一种内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统，外壳包括铝基基材；以及在所述铝基基材上依序形成的锌层、镍层、铬层及物理气相沉积层，铝基基材、锌层、镍层、铬层及所述物理气相沉积层的硬度递增；其中，镍层通过化学镀镍工艺形成，镍层的厚度为1um至20um；物理气相沉积层为含有TiSi化合物和/或TiSiCO化合物的涂层，通过化学镀镍工艺形成的厚度为1um至20um的镍层，能提高镍层的硬度，从而使得外壳各层的硬度可以梯度过渡，梯度过渡能增大后续镀铬层和物理气相沉积层的结合力，以保证涂层质量；并且含有TiSi化合物、TiSiCO化合物的涂层，对于低温等离子灭菌具有优异的耐受性，在经过200次的灭菌后涂层仍不褪色失效。

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其是涉及一种内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统。

背景技术

内窥镜摄像系统目前广泛用于对人身体内的某一器官部位进行检查，医生做手术时需握持内窥镜摄像头的外壳，因此，每次使用前后均需要对内窥镜摄像头进行灭菌处理，医院常用低温等离子过氧化氢灭菌设备对摄像头进行灭菌处理。具体而言，低温等离子过氧化氢灭菌流程为：采用少量的高浓度H₂O₂溶液经过进一步提纯到90％的浓度后注射进密闭低真空空间，在H₂O₂的扩散过程中，对暴露在该气氛下的内窥镜摄像头进行消毒灭菌，最后再通电使得H₂O₂等离子化进一步对内窥镜摄像头消毒灭菌。然而，内窥镜摄像头的外壳在经过200次以上的低温等离子灭菌后会出现褪色现象，影响外观。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种经过200次低温等离子灭菌后不会出现褪色现象的内窥镜摄像头的外壳。

另一方面，本发明还提出一种包含上述内窥镜摄像头的外壳的内窥镜摄像头以及内窥镜摄像系统。

根据本发明第一方面实施例的内窥镜摄像头的外壳，其包括铝基基材；以及在所述铝基基材上依序形成的锌层、镍层、铬层及物理气相沉积层，所述铝基基材、所述锌层、所述镍层、所述铬层及所述物理气相沉积层的硬度递增；其中，所述镍层通过化学镀镍工艺形成，所述镍层的厚度为1um至20um；所述物理气相沉积层为含有TiSi化合物和/或TiSiCO化合物的涂层。

根据本发明实施例的内窥镜摄像头的外壳，至少具有如下有益效果：通过化学镀镍工艺形成的厚度为1um至20um的镍层，能提高镍层的硬度，从而使得外壳各层的硬度可以梯度过渡，梯度过渡能增大后续镀铬层和物理气相沉积层的结合力，以保证涂层质量；并且含有TiSi化合物、TiSiCO化合物的涂层，对于低温等离子灭菌具有优异的耐受性，在经过200次的灭菌后，涂层仍不褪色失效。

根据本发明的一些实施例，所述镍层的厚度为4um至10um。

根据本发明的一些实施例，所述镍层的硬度为HV 300至HV 500。

根据本发明的一些实施例，所述化学镀镍工艺中采用的化学镍的含磷量为5wt％至15wt％。

根据本发明的一些实施例，所述铝基基材经喷砂工艺处理。

根据本发明的一些实施例，所述铬层的厚度为0.1um至1um。

根据本发明的一些实施例，所述铬层的硬度为HV 400至HV 800。

根据本发明的一些实施例，所述物理气相沉积层的厚度为0.2um至10um。

根据本发明的一些实施例，所述物理气相沉积层的硬度为HV 500至HV 1000。

根据本发明的一些实施例，所述物理气相沉积层为含有TiSi化合物以及TiSiCO化合物的梯度涂层。