[发明专利]一种品质分析和评价方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种品质分析和评价方法，其特征在于，包括如下步骤：

获取设定控制器参数，将所述设定实时控制器参数输送至控制回路中，以使所述控制回路根据预设的控制系统模型参数以及所述实时控制器参数进行品质分析和评价；

监测所述控制回路在运行过程中的实时控制器参数以及实时被控对象参数，基于所述设定控制器参数以及预设的过程模型特性参数，对所述实时控制器参数以及实时被控对象参数进行优化；

将所述优化后的被控对象参数以及所述控制器参数输入所述控制回路中，以使所述控制回路根据实时变化的优化后的被控对象参数以及所述控制器参数进行品质分析和评价。

2.根据权利要求1所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述过程模型特征参数包括控制器过程模型参数以及被控对象过程模型参数。

3.根据权利要求2所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述被控对象模型参数至少包括绝对误差偏差限、偏差负限、偏差正限、过程平均值、过程最大值、过程最小值、过程报警设限参数、过程偏差时间参数、过程值变化率参数、越限时间参数、过程积分面积参数。

4.根据权利要求3所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述过程报警设限参数包括过程高报警限、过程低报警限、过程负偏差限以及过程正偏差限，所述过程偏差时间参数至少包括过程负向偏差最小值、过程负向偏差的时间长度、过程负向偏差的总时间长度、过程负向偏差的时间百分比、过程正向偏差最大值、过程正向偏差的时间长度、过程正向偏差的总时间长度以及过程正向偏差的时间百分比，所述过程值变化率参数至少包括当下过程变化率、当下过程变化率最大值、当下过程变化率最小值，所述越限时间参数至少包括越高限时间、越高限总时间、越高限时间百分比、越低限时间、越低限总时间以及越低限时间百分比，所述过程积分面积参数至少包括过程积分面积、正向过程积分面积、负向古城积分面积、负向过程越限积分面积以及正向过程越限积分面积。

5.根据权利要求2所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述控制器过程模型参数包括控制偏差平均值、控制偏差越限参数、控制偏差的积分参数、控制偏差绝对值参数、控制偏差绝对值积分参数以及控制器的时间参数。

6.根据权利要求5所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述控制偏差越限参数至少包括控制偏差越负向限的最小值、控制偏差越负向限的时间、控制偏差越负向限的总时间、控制偏差越负向限的时间百分比、控制偏差越正向限的最大值、控制偏差越正向限的时间、控制偏差越正向限的总时间以及控制偏差越正向限的时间百分比，所述控制偏差的积分参数至少包括控制偏差的积分面积、负向控制偏差的积分面积、正向控制偏差的积分面积、负向控制偏差越限的积分面积以及正向控制偏差越限的积分面积，所述控制偏差绝对值参数控制偏差绝对值的平均值、控制偏差绝对值越限的最大值、控制偏差绝对值越限的时间、控制偏差绝对值越限的总时间、控制偏差绝对值越限的时间百分比、控制偏差绝对值的积分面积以及控制偏差绝对值越限的积分面积，所述控制器的时间参数至少包括控制器总的跟踪时间、控制器总的手动时间以及控制器总的自动时间。

7.根据权利要求1所述的品质分析和评价方法，其特征在于，所述基于所述控制系统模型参数以及所述控制器参数，进行品质的分析和评价，包括：

将所述被控对象参数以及所述控制器参数下发至对应的控制回路中，以使所述控制回路对当前的被控对象参数以及所述控制器参数进行调整后，实时进行品质分析和评价。