[发明专利]Re-Fe-B系永磁体的制备方法在审
申请号: | 202211517846.3 | 申请日: | 2022-11-30 |
公开(公告)号: | CN115862986A | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 史荣莹;刘润海;左志军;张旭 | 申请(专利权)人: | 京磁材料科技股份有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 卢富华 |
地址: | 101399 北京市顺义区林河南*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | re fe 永磁体 制备 方法 | ||
本发明公开了一种Re‑Fe‑B系永磁体的制备方法,包括以下步骤:将纳米级的Cu粉加入有机溶剂A中,配制成混合悬浮液A,将所述混合悬浮液A包覆于粗磁粉中,压制成生坯块,烧结,加工成磁片;再将稀土金属粉加入有机溶剂B中,配制成混合悬浮液B,将所述混合悬浮液B涂敷于所述磁片的表面,晶界扩散,制得Re‑Fe‑B系永磁体。本发明通过在烧结钕铁硼生产过程中,使用有机添加剂作为介质,加入一定比例的纳米Cu粉,在真空高温的条件下,优化组织结构,提升高温磁性能,降低热减磁率,改善永磁体的热稳定性,取代传统增加重稀土使用量的工艺,从而大幅度的降低成本。
技术领域
本发明涉及永磁体材料技术领域。更具体地说,本发明涉及一种Re-Fe-B系永磁体的制备方法。
背景技术
稀土Nd2Fe14B永磁体凭借其优良的综合磁性能,被广泛应用于通讯、信息、交通、能源和节能等领域,是目前应用最广的永磁材料。随着新能源技术的迅猛发展,钕铁硼永磁电机的应用范围日益扩大,不同领域对于钕铁硼磁体的性能要求也在不断提高。近年来,烧结Re-Fe-B磁体研发主要分两个方向:一是高性能;二是低成本。随着烧结Re-Fe-B磁体在风力发电、新能源汽车和节能家电等低碳经济领域的应用,兼具高磁能积和高矫顽力的双高特性的烧结Re-Fe-B磁体成为一个重要的研究方向。
近期研究表明,利用晶界扩散技术(GBDP)对钕铁硼磁体进行优化处理,能使其矫顽力大幅提高,而剩磁或最大磁能积基本不下降,此技术已成为大幅提升钕铁硼矫顽力并能够节省重稀土使用成本的最有效手段。但是,在实际生产过程中,重稀土Dy或Tb经过晶界扩散后,经常出现磁性能偏差大的问题,尤其表现在成品片在测试抗退磁性时,磁片的热减磁率波动较大,进而影响在电机使用时的性能。为了弥补性能和热减磁率的不足,通常会采用增大重稀土Dy或Tb使用量的方法,但是比较高含量的重稀土的使用,成本优势很弱,并且对于稀土资源的平衡及高效利用也处于不利的局势。专利文献JP-A2006-344779公开了蒸镀Tb或者Dy的氟化物同时扩散进烧结磁体内部的方法,但采用该方法处理磁体,需严格控制蒸发源蒸发速度和蒸汽浓度,对温度、真空度及操作系统的要求很高;同时由于受处理磁体与蒸发源之间有一定间隔,降低了空间利用率,处理成本较高。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种Re-Fe-B系永磁体的制备方法,其能够在不增加稀土使用量的情况下,有效提升磁体的热稳定性。
为了实现根据本发明的这些目的和其它优点,根据本发明的一个方面,本发明提供了Re-Fe-B系永磁体的制备方法,包括以下步骤:将纳米级的Cu粉加入有机溶剂A中,配制成混合悬浮液A,将所述混合悬浮液A包覆于粗磁粉中,压制成生坯块,烧结,加工成磁片;再将稀土金属粉加入有机溶剂B中,配制成混合悬浮液B,将所述混合悬浮液B涂敷于所述磁片的表面,晶界扩散,制得Re-Fe-B系永磁体。
优选的是,所述Cu粉的粒径为500nm~1500nm。
优选的是,所述混合悬浮液A为Cu粉与正庚烷、辛酸甲酯的混合溶液按25%~75%的质量比配制而成,其中,所述正庚烷和辛酸甲酯的质量比为1:3。
优选的是,所述粗磁粉为将Pr、Nd、Ce、B、Cu、Co、Ga、Zr、Ti、Fe各金属元素按(3~3.2):(9.5~10):(0.5~1):(5.4~5.6):(0.1~0.15):(0.6~1.5):(0.18~0.25):(0~0.15):(0~0.2):(78.4~80.27)的原子百分比,经配料、熔炼、氢化处理制得的。
优选的是,所述磁片的具体制备过程为:
步骤一、在所述粗磁粉的气流制粉过程中,将所述混合悬浮液A添加入气流磨磨机内,经气流磨磨机内部的碰撞将混合悬浮液A包覆于粗磁粉中,获得钕铁硼粗磁粉,其中所述混合悬浮液A与粗磁粉的质量比为(2‰~6‰):1;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京磁材料科技股份有限公司,未经京磁材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211517846.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。