[发明专利]一种负空间雕刻工艺

权利要求书

1.一种负空间雕刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、蜡模制作，将蜡模制作成所设计负空间玻璃艺术品形状；

步骤2、耐火石膏模具制作，将蜡模翻制成耐火石膏模具，加热熔化蜡模，得到的耐火石膏模包括内模，内模为正形；

步骤3、玻璃铸造，使液体玻璃流入耐火石膏模具中，待玻璃凝固后，取出耐火石膏模具。

2.根据权利要求1所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：蜡模上预留第一缺口，步骤2中，石膏浆液从第一缺口流入，待石膏浆液凝固后，形成耐火石膏模具。

3.根据权利要求2所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：步骤3中，玻璃预留第二缺口，耐火石膏模具从第二缺口位置露出，玻璃凝固后，将耐火石膏模具破碎并从第二缺口取出。

4.根据权利要求3所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：通过人工雕刻、CNC雕刻或3D打印制作蜡模。

5.根据权利要求3所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：步骤1中，制作蜡模的方法为：

步骤1.1、将油泥雕刻成正形；

步骤1.2、通过硅胶模具两次翻模，得到包含正形部分的硅胶模具；

步骤1.3、再用蜡包裹硅胶模具，形成负空间玻璃艺术品形状的蜡模，利用硅胶的弹性，将硅胶模具的正形部分从第一缺口中取出。

6.根据权利要求5所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：硅胶模具包括第一硅胶模具和第二硅胶模具，将液态硅胶包裹油泥，液态硅胶凝固后形成负空间玻璃艺术品形状的第一硅胶模具，将液态硅胶填满第一硅胶模具内壁，凝固后形成正形的第二硅胶模具。

7.根据权利要求6所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：第一硅胶模具成型后，在第一硅胶模具内壁涂脱模剂。

8.根据权利要求7所述的一种负空间雕刻工艺，其特征在于：玻璃为彩色玻璃。