[发明专利]用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的装置和方法

权利要求书

1.一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的方法，其特征在于：是通过调整二分之一波片角度θ，得到多组斯托克斯参数和二分之一波片旋转角度θ之间的数据，通过绘制拟合图可得到抛物线，此时抛物线的最低点即为双折射材料光轴所在位置；得到散斑图像以后，通过计算得到多组θ和之间的数学关系图，通过找出拟合曲线后的最低点即为找到双折射材料光轴。

2.根据权利要求1所述的一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的方法，其特征在于：在确定双折射材料光轴的基础上，基于所记录散斑的光强对比度和散斑的平均个数进而实现双折射材料(5)粗糙度的测量。

3.根据权利要求1所述的一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的装置，其特征在于：所述装置激光器(1)的主光路上依次设置有第一透镜(2)、第一线偏振片(3)、二分之一波片(4)、第二透镜(6)、圆偏振片系统(9)和相机(10)。

4.根据权利要求2所述的一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的装置，其特征在于：所述激光器(1)的主光路上依次设置有第一透镜(2)、第一线偏振片(3)、二分之一波片(4)、第二透镜(6)、光瞳(7)、第三透镜(8)和相机(10)。