[发明专利]基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统及方法在审
申请号: | 202211540940.0 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN115980083A | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 杨青;林飞宏;王力宁;王智;庞陈雷 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01;G01N21/88 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 傅朝栋;张法高 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 线阵布里渊 显微 芯片 缺陷 检测 系统 方法 | ||
1.一种基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,包括布里渊散射探测模块(101)、明场探测模块(102)、位移模块(104)、信号处理与反馈模块(105)和成像与分析模块(106);
所述样品(103)置于位移模块(104)上,信号处理与反馈模块(105)能通过位移模块(104)控制样品(103)的移动;所述布里渊散射探测模块(101)通过探测样品(103)表面的布里渊光谱信息以获得其机械应力缺陷分布信息,明场探测模块(102)通过探测样品(103)表面的明场光强信息以获得其几何缺陷分布信息;所述信号处理与反馈模块(105)分别与布里渊散射探测模块(101)和明场探测模块(102)相连,用于接收采集到的探测信号并将其处理为单次线束测量数据;所述成像与分析模块(106)和信号处理与反馈模块(105)相连,用于接收、储存和成像处理所述单次线束测量数据,同时能将结果反馈给所述信号处理与反馈模块(105)。
2.根据权利要求1所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,所述样品(103)为晶圆或芯片。
3.根据权利要求1所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,所述布里渊散射探测模块(101)包括共同构成光学系统的布里渊散射线阵光源组件(210)、第三滤光片(211)、第二偏振分光棱镜(212)、第二四分之一波片(213)、二向色镜(205)、物镜(206)、反射镜(214)、滤光组件(215)、第二柱面镜(216)、虚空成像相位阵列(217)、第三柱面镜(218)、可调狭缝(219)、会聚透镜(220)和面阵相机(221);
所述布里渊散射线阵光源组件(210)输出的平行偏振光束能依次经第三滤光片(211)、第二偏振分光棱镜(212)、第二四分之一波片(213)、二向色镜(205)、物镜(206)后会聚成线形光照射在样品(103)表面上,经样品(103)表面反射形成的光束能依次经物镜(206)、二向色镜(205)、第二四分之一波片(213)、第二偏振分光棱镜(212)、反射镜(214)、滤光组件(215)、第二柱面镜(216)后会聚成线形光入射到虚空成像相位阵列(217)的入射面,由所述虚空成像相位阵列(217)色散后再经过第三柱面镜(218)会聚成线形光入射到可调狭缝(219)上,经可调狭缝(219)进行空间滤波滤除杂散光后再经会聚透镜(220)会聚到面阵相机(221)上。
4.根据权利要求3所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,经所述第二柱面镜(216)线聚焦至虚空成像相位阵列(217)入射面的线形光斑与物镜(206)聚焦后形成的线形光斑均沿X方向平行。
5.根据权利要求3所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,所述滤光组件(215)用于滤除反射光和弹性背景光,包括但不限于超窄带宽滤波器和原子吸收池。
6.根据权利要求3所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,所述明场探测模块(102)包括共同构成光学系统的明场线阵光源组件(201)、第一滤光片(202)、第一偏振分光棱镜(203)、第一四分之一波片(204)、二向色镜(205)、物镜(206)、第二滤光片(207)、第一柱面镜(208)和线阵相机(209);
所述明场线阵光源组件(201)输出的垂直偏振光束能依次经第一滤光片(202)、第一偏振分光棱镜(203)、第一四分之一波片(204)、二向色镜(205)和物镜(206)后会聚成线形光照射在样品(103)表面上,经样品(103)表面反射形成的光束能依次经物镜(206)、二向色镜(205)、第一四分之一波片(204)、第一偏振分光棱镜(203)、第二滤光片(207)和第一柱面镜(208)会聚到线阵相机(209)上。
7.根据权利要求1所述的基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统,其特征在于,所述布里渊散射探测模块(101)和明场探测模块(102)的物方探测区域均为线形,并且在物方线聚焦的方向均沿X方向并保持长度一致。
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