[发明专利]一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法、基片和设备在审
| 申请号： | 202211541708.9 | 申请日： | 2022-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN115928025A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 李丽娟 | 申请（专利权）人： | 成都海威华芯科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/28 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 张巨箭 |
| 地址： | 610299 四川省成都市中国（四川）自由*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 颗粒状 真空镀膜 方法 设备 | ||
1.一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，包括镀料放置步骤和位于镀料放置步骤之后的真空镀膜步骤；其特征在于：所述镀料放置步骤包括以下子步骤：
在置放镀料的容器中放置大颗粒镀料；
在大颗粒镀料间的孔隙中填充小颗粒镀料。
2.根据权利要求1所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述在置放镀料的容器中放置大颗粒镀料；在大颗粒镀料间的孔隙中填充小颗粒镀料，具体包括：
在置放镀料的容器中，每放置一层大颗粒镀料后，立刻在大颗粒镀料间的孔隙中填充小颗粒镀料；或者：
在置放镀料的容器中，当放置完所有大颗粒镀料后，再在大颗粒镀料间的孔隙中填充小颗粒镀料。
3.根据权利要求1所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述大颗粒镀料和小颗粒镀料的原料为金属、非金属、氧化物、化合物或合金材料。
4.根据权利要求1所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述大颗粒镀料和小颗粒镀料的形状为球体、圆柱体、立方体或非规整立体结构。
5.根据权利要求1所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述真空镀膜步骤包括以下子步骤：
将放置有容器和待镀膜基片的真空室抽真空；
利用加热光加热容器中的颗粒状镀料，形成蒸汽流入射到基片表面，形成固态薄膜。
6.根据权利要求5所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述加热光为电子束或离子束。
7.根据权利要求5所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述容器为坩埚。
8.根据权利要求5所述的一种基于颗粒状镀料的真空镀膜方法，其特征在于：所述待镀膜基片平行设置于容器正上方。
9.一种基片，其特征在于：采用如权利要求5～8中任意一项所述的基于颗粒状镀料的真空镀膜方法制备得到。
10.一种设备，其特征在于：包括如权利要求9所述的基片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都海威华芯科技有限公司，未经成都海威华芯科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211541708.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种麻醉后翻身辅助装置
- 下一篇：一种顶板非接触式的箱涵顶进工法
- 同类专利
- 专利分类
