[发明专利]一种单晶棒的生产工艺及设备在审
申请号: | 202211541972.2 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN115821382A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 张向东;章斌;王林 | 申请(专利权)人: | 衢州晶哲电子材料有限公司 |
主分类号: | C30B27/02 | 分类号: | C30B27/02;C30B29/06 |
代理公司: | 衢州维创维邦专利代理事务所(普通合伙) 33282 | 代理人: | 包琳 |
地址: | 324022 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单晶棒 生产工艺 设备 | ||
1.一种单晶棒的生产工艺,其特征在于:包括以下步骤:
步骤S1:将多晶硅的装料和熔化:将高纯多晶硅料粉碎,并在硝酸和氢氟酸的混合溶液中清洗外表面,除去可能的金属杂质;将粉碎后的高纯多晶硅料放入单晶炉中的石墨坩埚中;将单晶炉抽真空,再充入保护气,最后加热升温,加热温度超过硅材料的熔点1412℃,使硅材料充分熔化;
步骤S2:引晶:将单晶籽晶固定在籽晶轴上,并和籽晶轴一起旋转,将籽晶缓缓下降,距液面10mm处暂停片刻,待籽晶温度接近熔硅温度时,将籽晶轻轻浸入熔硅,使头部首先少量溶解,然后和熔硅形成一个固液界面;将籽晶逐步上升,与籽晶相连并离开固液界面的硅温度降低,形成单晶硅;
步骤S3:缩颈:快速向上提拉籽晶,使新结晶的单晶硅的直径达到3mm,长度约为此时晶体直径的6~10倍,旋转速度为2~10rpm;石墨坩埚沿晶体相反方向旋转,晶体的旋转速度比石墨坩埚快1~3倍;
步骤S4:将晶体控制到所需的目标直径;
步骤S5:等径生长:石墨坩埚和晶体相互反方向旋转,晶体的旋转速度为2.5~20rpm,石墨坩埚的旋转速度为-1.25~-10rpm;根据熔体和单晶炉的状况,控制晶体等径生产所需长度;
步骤S6:收尾降温:晶体直径逐渐缩小,离开熔体;降低温度,逐渐冷却温度。
2.一种生产单晶棒的单晶炉,适用于权利要求1所述的一种单晶棒的生产工艺,其特征在于,包括:
第一炉室(2),所述第一炉室(2)用于将硅料融化成硅液,第一炉室(2)上设置有第一炉口(3);
第二炉室(4),所述第二炉室(4)包括工作位和卸料位,第二炉室(4)通过卸料机构(15)在工作位和卸料位之间切换,第二炉室(4)上设置有第二炉口(5);
隔离组件(7),隔离组件(7)具有隔热结构;
籽晶提拉旋转机构,所述籽晶提拉旋转机构设置在第二炉室(4)上方,籽晶提拉旋转机构包括籽晶夹具(6);
其中,所述籽晶夹具(6)能伸入第一炉室(2)逐步将硅液牵扯成棒状并提升至第二炉室(4),所述隔离组件(7)设置在第一炉室(2)和第二炉室(4)之间,隔离组件(7)能使第一炉室(2)和第二炉室(4)内腔相互贯通或隔离,单晶炉上还设置有引导机构(8),所述引导机构(8)用于引导第二炉室(4)复位至工作位。
3.根据权利要求2所述的一种生产单晶棒的单晶炉,其特征在于,第二炉室(4)处于工作位时,第一炉室(2)与第二炉室(4)同轴且内腔相互贯通,隔离组件(7)的两端分别与第二炉口(5)和第一炉口(3)贴合,第二炉室(4)处于卸料位时,第一炉室(2)与第二炉室(4)轴线错开且第二炉口(5)远离隔离组件(7)并暴露。
4.根据权利要求2所述的一种生产单晶棒的单晶炉,其特征在于,所述引导机构(8)包括:
承接件(9),所述承接件(9)在隔离组件(7)壳体上设置多个;
引导件(11),所述引导件(11)设置在承接件(9)上;
插接件(12),所述插接件(12)对应承接件(9)设置在第二炉室(4)上;
其中,引导件(11)用于引导插接件(12)准确插入承接件(9)。
5.根据权利要求4所述的一种生产单晶棒的单晶炉,其特征在于,所述引导件(11)包括:
引导块(13),所述引导块(13)端部设有凹槽,凹槽的侧壁上设有轴,引导块(13)设置在承接件(9)上;
引导滚轮(14),所述引导滚轮(14)套设在凹槽的轴上;
其中,引导块(13)和引导滚轮(14)至少设置两个,引导滚轮(14)外壁之间的距离等于插接件(12)的直径。
6.根据权利要求4所述的一种生产单晶棒的单晶炉,其特征在于,所述插接件(12)设置在第二炉室(4)的底部,所述插接件(12)远离第二炉室(4)的底部呈半圆球型。
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