[发明专利]低共熔溶剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种低共熔溶剂，其特征在于，所述低共溶溶剂包含作为氢键受体的聚合物以及作为氢键给体的含脲基化合物，所述聚合物选自聚脯氨酸、ε-聚赖氨酸、聚季铵盐-7、聚季铵盐-11、双子季铵盐和聚(γ-谷氨酸)中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的低共熔溶剂，其特征在于，所述含脲基化合物选自尿囊素、尿素、缩二脲和缩三脲中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的低共熔溶剂，其特征在于，所述双子季铵盐的结构如下所示：

其中：

n₁为4、6或8；n₂为2、3、4或6；n₃为11、13或15；

m为4、5、6、7、8、9或10；

X^-₁和X^-₂分别独立地为Cl^-或Br^-。

4.根据权利要求1～3任一项所述的低共熔溶剂，其特征在于，按质量百分数计，所述低共熔溶剂中聚合物和含脲基化合物的质量比为1～10：1。

5.根据权利要求1～3任一项所述的低共熔溶剂，其特征在于，所述低共溶溶剂还包括多元醇。

6.根据权利要求1～3任一项所述的低共熔溶剂，其特征在于，所述多元醇选自甘油、1,2-丙二醇、山梨醇、多聚甘油、木糖醇中的至少一种。

7.根据权利要求5所述的低共熔溶剂，其特征在于，按质量百分数计，所述低共熔溶剂包含聚合物40％～50％，含脲基化合物5％～20％以及多元醇40％～55％。

8.一种如权利要求1～7任一项所述的低共熔溶剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将所述低共熔溶剂的原料与水混合，加热至水分蒸干，形成均匀粘稠状液体，即得低共熔溶剂，所述低共熔溶剂的原料包括用于作为氢键受体的聚合物以及作为氢键给体的含脲基化合物，所述聚合物选自聚脯氨酸、ε-聚赖氨酸、聚季铵盐-7、聚季铵盐-11、双子季铵盐和聚(γ-谷氨酸)中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述低共熔溶剂的原料满足以下特征中的至少一个：

(1)所述含脲基化合物选自尿囊素、尿素、缩二脲和缩三脲中的至少一种；

(2)所述低共熔溶剂的原料还包括多元醇。

10.根据权利要求8或9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法中的步骤满足以下特征中的至少一个：

(1)所述水的比例为低共熔溶剂总质量的3％～8％；

(2)所述加热的温度为90℃～110℃。

11.根据权利要求1～7任一项所述的低共熔溶剂在制备化妆品中的应用。

12.一种化妆品，其特征在于，所述化妆品的原料包括权利要求1～7任一项所述的低共熔溶剂，还包括无机填料、天然活性成分以及有机颜料中的至少一种。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，，所述天然活性成分包括多肽、糖、一元或多元羧酸中的至少一种；和/或

所述无机填料包括氧化锌、氧化铁、二氧化钛中的至少一种；和/或

所述有机颜料包括藤黄、靛青、茜素红、胭脂红中的至少一种。