[发明专利]乙基己基三嗪酮产品及其制备方法

说明书

本发明涉及精细化工技术领域，具体为一种乙基己基三嗪酮产品及其制备方法，包括以下步骤：以三聚氯氰和对氨基苯甲酸异辛酯为原料，反应生成乙基己基三嗪酮粗品；而后将所述乙基己基三嗪酮粗品在pH值≤10的碱性条件下结晶。本发明通过将乙基己基三嗪酮粗品在碱性条件下结晶，显著降低杂质H和B在降温结晶过程的析出量，可获得杂质H含量在0.03wt％以下、杂质B含量在0.05wt％以下的乙基己基三嗪酮产品，有利于其在防晒剂中的后续应用。

技术领域

本发明涉及精细化工技术领域，尤其涉及一种乙基己基三嗪酮产品及其制备方法。

背景技术

EHT(CAS:88122-99-0,乙基己基三嗪酮，结构式如图1所示)是近年发展起来的一类新型紫外线吸收剂，属于乙基己基三嗪酮产品，分子结构较大，具有很高的紫外线吸收效率和广谱防晒效果，既是UVB吸收能力最强的油溶性吸收剂，又防UVA段紫外线，光稳定性强、耐水性强，对皮肤的角质蛋白有较好的亲和力，可以用作防晒产品中的添加剂。

EHT的简要生产过程为：三聚氯氰和对氨基苯甲酸异辛酯在二甲苯中微回流反应，反应结束后水洗分层，之后蒸馏除去二甲苯，高温加乙醇粗制结晶。然而三聚氯氰和对氨基苯甲酸异辛酯反应生成EHT的过程中，三聚氯氰遇水变质后与对氨基苯甲酸异辛酯反应会产生如下所示的杂质H1和H2，该杂质溶解性较差。另外，反应过程中EHT遇水后水解容易产生EHT相关物质杂质B。

此两种杂质为现有工艺中最主要的两大杂质，会造成产品溶液浑浊，且精制后不能有效除去，容易造成单杂超标、产品溶解性问题。在防晒剂的制作过程中，常使用各类酯类作为溶剂，例如常见的乙酸乙酯和OS(水杨酸异辛酯CAS：118-60-5)。研究发现，杂质H1和H2总的含量在0.08％以下时，EHT在乙酸乙酯中能溶清，但仍不足以使成品在OS中溶清。研究表明，需要控制杂质H1和H2总的含量小于0.03％，产品在OS中才能溶清。因此，如何去除乙基己基三嗪酮产品中的杂质H1、H2和B，是亟待解决的问题。

有鉴于此，有必要提供一种改进的乙基己基三嗪酮产品及其制备方法，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种乙基己基三嗪酮产品及其制备方法，通过在pH值≤10的碱性条件下结晶，从而显著降低杂质H和B的含量，提高其使用安全性和溶解性。

为实现上述目的，本发明提供一种乙基己基三嗪酮产品的制备方法，包括以下步骤：

以三聚氯氰和对氨基苯甲酸异辛酯为原料，反应生成乙基己基三嗪酮粗品；

而后将所述乙基己基三嗪酮粗品在pH值≤10的碱性条件下结晶，所述碱性条件通过添加有机碱和/或无机碱实现。通过此方案，能够显著降低杂质H和B的含量。其中，杂质B为FDA药典标准品，杂质H包括同分异构体H1、H2，可用核磁图谱和质谱图确定其结构式，杂质H1、H2和杂质B的结构如下所示：

在本发明进行EHT结晶过程的探究中发现，比起正常结晶，酸性和30℃结晶去除杂质H1、H2效果更好，杂质H1、H2能于OS中溶清，但杂质B的含量会增加，且直接酸洗会大大降低收率(降低10％左右)。继续研究发现碱性条件结晶能既不降低收率，同时拥有更好的杂质去除效果，去除杂质H1和H2的效果最佳，同时由于杂质B含有的羧酸官能团在碱性条件下被中和，使得杂质B在结晶过程也能被去除。