[发明专利]高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法在审
申请号: | 202211554013.4 | 申请日: | 2022-12-06 |
公开(公告)号: | CN115745312A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 陈怀斌 | 申请(专利权)人: | 江苏神汇新材料科技有限公司 |
主分类号: | C02F9/00 | 分类号: | C02F9/00;C02F1/28;C02F1/44;C02F1/469;C02F1/66;C02F101/14;C02F103/34 |
代理公司: | 连云港润知专利代理事务所 32255 | 代理人: | 马强 |
地址: | 222000 江苏省连*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 高纯 二氧化硅 生产 污水 排放 处理 方法 | ||
1.一种高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:该方法为先将高纯二氧化硅生产污水依次与碳酸钙、碳酸镁反应,然后进行沉降分离以得到一次净化水,再将一次净化水过滤后与活性氧化物反应,得到二次净化水,接着将二次净化水依次进行多级过滤、多级反渗透后再进行EDI处理,得到去离子水,最后将去离子水送入高纯二氧化硅生产供水系统供高纯二氧化硅生产使用。
2.根据权利要求1所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:其具体步骤为:
(1)将排放的高纯二氧化硅生产污水排入放置有碳酸钙的水池,污水中的酸根离子与碳酸钙进行中和反应;
(2)中和反应结束后的污水经沉降分离后排入放置有硅酸镁的水池,污水中的氟离子与硅酸镁进行反应,反应结束后再进行沉降分离处理,得到一次净化水;
(3)利用滤带、滤芯依次对一次净化水进行过滤,再送入放置有活性氧化物的活性氧化罐进行活性氧化处理,得到二次净化水;
(4)先利用滤带、滤芯、滤膜对二次净化水进行多级过滤,再利用一级反渗透膜、二级反渗透膜对二次净化水进行多级反渗透处理,最后送入EDI系统进行EDI处理,得到去离子水;
(5)将去离子水送入高纯二氧化硅生产供水系统供高纯二氧化硅生产使用。
3.根据权利要求2所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:在步骤(3)中,使用的滤带、滤芯设置有两组,两组滤带、滤芯并联设置。
4.根据权利要求2所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:在步骤(3)中,在活性氧化罐的输出端设置有用于盛装二次净化水的缓冲罐。
5.根据权利要求2所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:在步骤(4)中,二级反渗透膜、EDI系统产生的废水回流至二次净化水处,作为二次净化水使用。
6.根据权利要求2所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:在步骤(4)中,再额外设置一组一级反渗透膜、二级反渗透膜和EDI系统,步骤(4)中的一级反渗透膜产生的废水作为该组的水源输入。
7.根据权利要求6所述的高纯二氧化硅生产污水零排放处理方法,其特征在于:额外设置的一级反渗透膜、二级反渗透膜和EDI系统产生的废水也作为该组的水源输入。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏神汇新材料科技有限公司,未经江苏神汇新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211554013.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种自动化机械零件加工设备
- 下一篇:半导体芯片的制造方法及半导体芯片