[发明专利]一种用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器及其制备方法

权利要求书

1.一种用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，包括：

衬底层、衬底层上从下到上依次设置的金属反射层、谐振腔层和布拉格反射层；

所述谐振腔层从下到上依次包括第一透明层、二硫化钼层和第二透明层。

2.根据权利要求1所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述衬底层包括硅衬底以及设置于所述硅衬底表面的二氧化硅膜。

3.根据权利要求1所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述金属反射层的反射厚度的数值大于或等于目标波长在金属反射层的材料中趋肤深度的两倍。

4.根据权利要求1所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述金属反射层的组成材料包括金、银、钛，或合金。

5.根据权利要求1所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述谐振腔的腔厚度的计算公式为：其中，n₀为所述第一透明层和所述第二透明层的折射率，h₀为所述腔厚度，所述λ₀为预设的目标光纤的目标波长。

6.根据权利要求5所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述第一透明层和所述第二透明层厚度相等。

7.根据权利要求1所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述布拉格反射层包括间隔设置的若干个第三透明层和第四透明层，其中，第三透明层设置于所述谐振腔层上方。

8.根据权利要求7所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述第三透明层的厚度的计算公式为：其中，n₁为所述第三透明层的折射率，所述h₁为所述第三透明层的厚度，所述λ₀为预设的目标光纤的目标波长。

9.根据权利要求7所述用于增强二硫化钼光学吸收的光吸收器，其特征在于，所述第四透明层的厚度的计算公式为：其中，n₂为所述第四透明层的折射率，所述h₂为所述第四透明层的厚度，所述λ₀为预设的目标光纤的目标波长。

10.一种光吸收器的制作方法，其特征在于，所述方法用于制备如权利要求1～9中任意一项所述的光吸收器；所述方法包括：

制备衬底层；

在所述衬底层表面进行金属沉积，得到金属反射层；

在所述金属反射层进行化学沉积，得到第一透明层；

将预设的二硫化钼薄片转移至第一透明层上表面，得到二硫化钼层；

对所述二硫化钼层进行化学沉淀，得到第二透明层；

在所述第二透明层表面沉淀布拉格反射材料，得到设有布拉格反射层的光吸收器。