[发明专利]搅拌装置及其控制方法

权利要求书

1.一种搅拌装置，其特征在于，包括：

搅拌箱(1)，所述搅拌箱(1)用于盛放待搅拌配料；

搅拌部(2)，所述搅拌部(2)可移动地设置于所述搅拌箱(1)内；

驱动组件(3)，所述驱动组件(3)与所述搅拌部(2)连接，用于驱动所述搅拌部(2)转动，以对所述待搅拌配料进行搅拌；

调节部，所述调节部与所述搅拌部(2)连接，用于调节所述搅拌部(2)的位置，以改变所述搅拌部(2)伸入所述待搅拌配料的深度。

2.根据权利要求1所述的搅拌装置，其特征在于，

所述调节部包括支架(4)和伸缩部，所述伸缩部设置于所述搅拌箱(1)内，所述支架(4)与所述伸缩部连接；

所述搅拌部(2)设置于所述支架(4)上，所述伸缩部用于带动所述支架(4)伸缩以调节所述搅拌部(2)的位置。

3.根据权利要求1所述的搅拌装置，其特征在于，

所述驱动组件(3)包括驱动部(31)、第一磁性件(32)和第二磁性件(33)，所述第一磁性件(32)与所述驱动部(31)的输出端连接，所述第二磁性件(33)与所述搅拌部(2)连接；

所述第一磁性件(32)和所述第二磁性件(33)磁吸配合；

所述搅拌部(2)的位置改变时，所述第二磁性件(33)位于所述第一磁性件(32)的磁场范围内。

4.根据权利要求3所述的搅拌装置，其特征在于，

所述驱动部(31)包括第一电机和减速箱，所述第一电机的输出轴与所述减速箱的输入轴连接，所述减速箱的输出轴与所述第一磁性件(32)连接；

或者，

所述驱动部(31)包括第二电机，所述第二电机的输出轴与所述第一磁性件(32)连接。

5.一种搅拌装置的控制方法，应用于权利要求1至4中任一项所述的搅拌装置，其特征在于，所述控制方法包括：

响应于投料指令，获取待烹饪菜谱中目标配料的浓度值；

根据所述浓度值确定所述搅拌部的运行参数；

根据所述运行参数控制所述搅拌部运行，以对待搅拌配料进行搅拌；

其中，所述运行参数包括所述搅拌部的转速、所述搅拌部的转动时间和所述搅拌部伸入所述待搅拌配料的深度。

6.根据权利要求5所述的控制方法，其特征在于，所述根据所述浓度值确定搅拌部的运行参数，包括：

基于所述浓度值大于第一预设值，确定所述搅拌部的转速为第一转速；

基于所述浓度值小于所述第一预设值，确定所述搅拌部的转速为第二转速，所述第二转速小于所述第一转速。

7.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述根据所述浓度值确定搅拌部的运行参数，包括：

基于所述浓度值大于所述第一预设值，确定所述搅拌部的转动时间为第一时间；

基于所述浓度值小于所述第一预设值，确定所述搅拌部的转动时间为第二时间，所述第二时间小于所述第一时间。

8.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述根据所述浓度值确定搅拌部的运行参数，包括：

基于所述浓度值大于所述第一预设值，确定所述搅拌部的位置为第一位置；

基于所述浓度值小于所述第一预设值，确定所述搅拌部的位置为第二位置；

所述搅拌部处于所述第二位置时伸入所述待搅拌配料的深度小于所述搅拌部处于所述第一位置时伸入所述待搅拌配料的深度。

9.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，所述根据所述运行参数控制所述搅拌部运行，包括：

基于所述浓度值小于所述第一预设值，控制所述调节部调节所述搅拌部的位置至所述第一位置；

基于所述搅拌部位于所述第一位置，控制所述驱动组件驱动所述搅拌部转动；

基于所述浓度值小于所述第一预设值，控制所述调节部调节所述搅拌部的位置至所述第二位置；

基于所述搅拌部位于所述第二位置，控制所述驱动组件驱动所述搅拌部转动。

10.根据权利要求5所述的控制方法，其特征在于，所述响应于投料指令，获取待烹饪菜谱中所述配料的浓度值之前，所述控制方法还包括：

基于所述待搅拌配料已投入搅拌箱，控制所述搅拌部以第三转速转动；

基于所述搅拌部转动第三时间，控制所述搅拌部以第四转速转动；

基于所述搅拌部转动第四时间，控制所述搅拌部以第五转速转动；

所述第三转速大于所述第五转速且小于所述第四转速。