[发明专利]一种cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层及其制备方法在审
申请号: | 202211601951.5 | 申请日: | 2022-12-13 |
公开(公告)号: | CN116121831A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 裴志亮;张世怡;谷文双;宫骏;孙超 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C25D15/00 | 分类号: | C25D15/00;C25D3/18;C25D5/48;C23C10/48;C25D5/40;C23F17/00 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cbn 陶瓷 颗粒 铝化物 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,该方法首先利用复合电镀在高温合金基体上沉积Ni-cBN层,然后采用包埋渗铝方法制备cBN/Ni2Al3复合涂层。
2.根据权利要求1所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
(1)电镀前预处理包括依次进行的喷砂、电化学除油和活化处理,通过预处理去除基体表面氧化层,提高电镀层与基体的结合力;
(2)复合电镀Ni-cBN层:将预处理后的基体进行复合电镀,电镀瓦特液组成为:150~350g/L的Ni2SO4,20~100g/L的NiCl4,20~100g/L的H3BO3,0.3~1.2g/L的糖精,0.02~0.5g/L的十二烷基硫酸钠,其余为去离子水,电镀瓦特液的pH为2~7;复合电镀过程中,向电镀瓦特液掺入1~140g/L的cBN颗粒,颗粒平均粒径为0.1~50μm,机械搅拌速率为30~100r/min,水浴温度为30~70℃,电流密度为1~10A/dm2,电镀时间为5~60min;
(3)将复合电镀Ni-cBN层后的基体用去离子水洗净后,吹干备用;
(4)对电镀得到的Ni-cBN层进行包埋渗铝,渗剂成分为:1wt.%~8wt.%的Al粉,1wt.%~10wt.%的AlF3·3H2O,剩余为Al2O3粉;包埋温度为700~1000℃,时间为30min~200min,包埋后得到cBN/Ni2Al3复合涂层。
3.根据权利要求2所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,电镀前对基体进行表面处理,再进行预处理,所述表面处理的过程为:在磨抛机上使用SiC砂纸对基体进行打磨,将基体的新鲜表面磨出后对基体进行干喷砂处理,之后依次选择去离子水、丙酮和酒精进行5~15min的超声处理,以去除基体表面残留的油污。
4.根据权利要求2所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,电化学除油具体工艺为:在浓度为1~10g/L的氢氧化钠水溶液中电化学除油,基体为阴极,Ni板为阳极,电流密度为2~12A/dm2,处理时间为1~5min;活化处理使用的活化溶液是由浓盐酸和去离子水按照(10~30):(70~90)的体积比例混合而成,活化处理过程中,基体在活化溶液中浸泡1~5min。
5.根据权利要求2所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,共沉积的Ni-cBN层厚度为3~80μm,Ni-cBN层的cBN含量为1~50vol.%,其余为Ni。
6.根据权利要求2所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,复合电镀之前进行预镀Ni,预镀Ni过程中,镀液为瓦特液,其成分为:150~350g/L的Ni2SO4,20~100g/L的NiCl4,20~100g/L的H3BO3,0.3~1.2g/L的糖精,0.02~0.5g/L的十二烷基硫酸钠,其余为去离子水;基体作为阴极,阳极为纯Ni板,以1~10A/dm2的电流密度预镀镍1~3min。
7.根据权利要求2所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,包埋过程升温速率为5~10℃/min,渗铝期间通氩气进气量和出气量为1~10L/min,工作气压保持在一个标准大气压。
8.根据权利要求2或6所述的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,渗铝后涂层总厚度为10~250μm。
9.一种利用权利要求1至8之一所述方法制备的cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层,其特征在于,小尺寸cBN陶瓷颗粒均匀分布于cBN/Ni2Al3复合涂层。
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