[发明专利]金纳米空心圆台阵列表面增强拉曼散射基底及检测方法

权利要求书

1.一种金纳米空心圆台阵列结构表面增强拉曼散射基底，其特征在于，包括基片和基片上的若干个金纳米空心圆台，所述金纳米空心圆台从顶部到底部尺寸逐渐增大，所述金纳米空心圆台的高度为800-1200nm，顶部外直径为120-180nm，底部外直径为350-450nm，厚度为30-50nm，密度为1-3个/μm²。

2.根据权利要求1所述的一种金纳米空心圆台阵列结构表面增强拉曼散射基底，其特征在于，所述若干个金纳米空心圆台在基片上呈均匀分布且在同一平面上平行排列。

3.根据权利要求1或2所述的一种金纳米空心圆台阵列结构表面增强拉曼散射基底，其特征在于，所述基片为铜薄膜，所述铜薄膜的厚度为10-20μm。

4.基于金纳米空心圆台阵列结构的拉曼光谱检测方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：制备如权利要求1-3任一项所述的金纳米空心圆台阵列结构表面增强拉曼散射基底样品；

步骤2：通过近场扫描光学显微镜分析样品的光学特性；

步骤3：根据步骤2获得的光学特性，配制不同浓度的有机溶液，将不同浓度的有机溶液滴到步骤1制备的基底样品上；

步骤4：用拉曼光谱仪测试基底样品在不同浓度有机溶液下的光谱数据；

步骤5：分析步骤4得到的光谱数据，得到基底样品对不同浓度有机溶液的检测功能。

5.根据权利要求4所述的基于金纳米空心圆台阵列结构金纳米空心圆台阵列结构的拉曼光谱检测方法，其特征在于，所述步骤1中，金纳米空心圆台阵列结构表面增强拉曼散射基底样品的制备方法如下：

S1：制备模板；

S2：对所述模板进行不对称刻蚀得到带锥形纳米孔的模板；

S3：在步骤S2的锥形纳米孔中溅射金；

S4：向溅射有金的锥形纳米孔以及模板上沉积铜得到涂覆有金的带圆台的铜基片；

S5：将步骤S4的铜基片从模板上剥离并再次在锥形纳米孔中镀金，反复多次即得到金纳米空心圆台阵列结构。

6.根据权利要求4或5所述的基于金纳米空心圆台阵列结构的拉曼光谱检测方法，其特征在于，所述有机溶液为罗丹明6G溶液。

7.根据权利要求4或5所述的基于金纳米空心圆台阵列结构的拉曼光谱检测方法，其特征在于，所述罗丹明6G溶液的浓度为10^-6mol/L，10^-8mol/L和10^-12mol/L。

8.根据权利要求4或5所述的基于金纳米空心圆台阵列结构的拉曼光谱检测方法，其特征在于，所述步骤3中，将某一浓度的有机溶液滴到基底样品上后自然风干，所述步骤4中，光谱数据测量完之后用酒精将基底样品清洗干净，晾干以后用另外两种浓度的有机溶液重复操作两次。