[发明专利]包括衬底、功率半导体部件和压力体的功率半导体模块在审

专利信息
申请号: 202211622332.4 申请日: 2022-12-16
公开(公告)号: CN116417419A 公开(公告)日: 2023-07-11
发明(设计)人: 约尔格·阿蒙;哈拉尔德·科波拉;西蒙·胡特迈尔;拉尔夫·埃勒 申请(专利权)人: 赛米控电子股份有限公司
主分类号: H01L23/40 分类号: H01L23/40
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 蔡石蒙;黄刚
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 衬底 功率 半导体 部件 压力 模块
【权利要求书】:

1.一种功率半导体模块(1),包括:衬底(2),所述衬底(2)具有不导电的绝缘层(2a)和金属层(2b),所述金属层(2b)布置在所述绝缘层(2a)上并被构造用以形成导体轨道(2b’);功率半导体部件(3),所述功率半导体部件(3)布置在所述金属层(2b)上并与所述金属层(2b)导电接触;压力装置(5),所述压力装置(5)在所述绝缘层(2a)的法线方向(N)上布置在所述衬底(2)上方,并且具有压力体(6)和朝向所述衬底(2)延伸的压力元件(7),所述压力元件(7)各自均连接到所述压力体(6),以便通过所述压力装置(5)的弹簧元件(8)在所述绝缘层(2a)的法线方向(N)上弹性移动,所述弹簧元件(8)与相应的所述压力元件(7)相关联,所述压力体(6)被设计用以通过所述弹簧元件(8)在朝向所述衬底(2)的方向上将压力(D1)施加到所述压力元件(7)上,所述压力元件(7)被布置成使得由于所述压力体(6)施加的压力(D1),所述压力元件(7)压到所述衬底(2)的功率半导体部件周围的区域(9)上,所述区域围绕所述功率半导体部件(3)。

2.根据权利要求1所述的功率半导体模块(1),其中,所述压力元件(7)被布置成使得由于所述压力体(6)施加的压力(D1),所述压力元件(7)直接紧挨着所述功率半导体部件(9)压在所述衬底(2)上。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的功率半导体模块(1),其中,所述压力元件(7)具有不导电的设计。

4.根据权利要求1-2中任一项所述的功率半导体模块(1),其中,所述弹簧元件(8)被设计为布置在所述压力体(6)和所述压力元件(7)之间的弹性层(10)的层区域(8a)。

5.根据权利要求4所述的功率半导体模块(1),其中,所述弹性层(10)以被构造用以形成所述层区域(8a)的方式设计或者具有单件式设计。

6.根据权利要求4所述的功率半导体模块(1),其中,所述压力元件(7)以材料结合的方式连接到所述层区域(8a),特别是通过粘合连接。

7.根据权利要求4所述的功率半导体模块(1),其中,所述压力元件(7)通过连结板(11)彼此连接,所述连结板被设计成在所述绝缘层(2a)的法线方向(N)上是柔性的。

8.根据权利要求7所述的功率半导体模块(1),其中,所述功率半导体模块(1)具有框架元件(12),所述压力元件(7)通过另外的柔性设计的连结板(13)来连接到所述框架元件(12)。

9.根据权利要求8所述的功率半导体模块(1),其中,所述框架元件(12)连接到所述压力体(6),特别是通过至少一个互锁连接件(14)连接到所述压力体(6),所述至少一个互锁连接件(14)中的每一个互锁连接件特别设计为快速动作连接件。

10.根据权利要求1-2中任一项所述的功率半导体模块(1),其中,相应的所述压力元件(7)在其面向相应的所述弹簧元件(8)的端部区域(7a)处具有压力引入部分(7b),所述压力引入部分(7b)具有面向所述弹簧元件(8)并且垂直于所述绝缘层(2a)的法线方向(N)延伸的平面表面区域(7ba)或者具有面向所述弹簧元件(8)的凹入延伸的表面区域(7bb)。

11.根据权利要求1至2中任一项所述的功率半导体模块(1),其中,所述压力体(6)与所述弹簧元件(8)和所述压力元件(7)一起被设计成单件。

12.根据权利要求11所述的功率半导体模块(1),其中,所述弹簧元件(8)中的至少一个弹簧元件通过在所述压力体(6)中制造的至少一个狭槽(15)形成,并且/或者,其中,所述弹簧元件(8)中的至少一个弹簧元件具有弯曲的轮廓,特别是S形轮廓。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛米控电子股份有限公司,未经赛米控电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211622332.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top