[发明专利]对接面密封结构以及军用方舱

权利要求书

1.一种对接面密封结构，其特征在于，包括：

第一密封座和第二密封座，相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和所述第二密封座能够相对活动；以及，

密封结构，形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座。

2.如权利要求1所述的对接面密封结构，其特征在于，所述磁吸结构包括相互吸引的第一磁吸部和第二磁吸部，所述第一磁吸部设于所述第二密封座，所述第二磁吸部设于所述密封部背向所述第一密封座的侧端，用以磁吸挤压所述密封部形变，以适应所述第一密封座和所述第二密封座之间的相对活动。

3.如权利要求2所述的对接面密封结构，其特征在于，还包括限位保护结构，所述限位保护结构设于所述密封部与所述第一密封座之间，用于在所述第一密封座和所述第二密封座活动背离时，限制所述第二磁吸部移动。

4.如权利要求3所述的对接面密封结构，其特征在于，所述限位保护结构包括：

限位座，自所述第一密封座向所述安装间隙内延伸设置，所述限位座内形成有活动槽，所述活动槽的两侧壁于其口部向内折弯形成限位口；

限位块，活动设于所述活动槽内，并可活动至抵接限位于所述限位口处；以及，

牵引绳，其两端分别连接所述限位块和所述第二磁吸部。

5.如权利要求1所述的对接面密封结构，其特征在于，所述密封部包括“C”型密封条。

6.如权利要求1所述的对接面密封结构，其特征在于，所述第一密封座和所述第二密封座之间还形成有与所述安装间隙相连的第一间隙；

所述密封结构还包括遮盖结构，所述遮盖结构包括：

遮盖部，自所述第二密封座的上端向所述第一密封座的上端延伸设置，以遮盖于所述第一间隙上方；以及，

支撑部，所述支撑部的一端自所述第一密封座上端向上延伸设置，以在所述第一密封座和所述第二密封座活动靠近时抵顶所述遮盖部。

7.如权利要求6所述的对接面密封结构，其特征在于，所述支撑部的另一端自所述第一间隙向下延伸，以延伸至所述安装间隙的底部并于该处折弯形成排水槽。

8.如权利要求6所述的对接面密封结构，其特征在于，所述支撑部邻近所述遮盖部的一端的端部包覆有密封件，用于密封所述遮盖部与所述支撑部之间的间隙。

9.一种军用方舱，其特征在于，包括：

舱体，具有分别位于两侧且能够相对开合的两个顶盖；以及，

对接面密封结构，包括如权利要求1至8所述的任意一项对接面密封结构，所述第一密封座和所述第二密封座分别安装于一个所述顶盖上，以相对开合。

10.如权利要求9所述的军用方舱，其特征在于，所述第一密封座和所述第二密封座均包括L型材，以在纵向上的截面上形成横向延伸的所述安装间隙以及沿上下向延伸的所述第一间隙。