[发明专利]一种多栅的复合介质栅光敏探测器及工作方法在审

专利信息
申请号: 202211645057.8 申请日: 2022-12-21
公开(公告)号: CN115799379A 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 闫锋;刘泉;朱千琳;蒋俊杰;宋年华;程方龙;高党辉;段爽;马浩文;卜晓峰 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L31/113 分类号: H01L31/113;H01L31/112
代理公司: 江苏法德东恒律师事务所 32305 代理人: 李媛媛
地址: 210046 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 复合 介质 光敏 探测器 工作 方法
【说明书】:

发明公开了一种多栅的复合介质栅光敏探测器及工作方法。其光敏探测器包括形成在同一衬底上的感光晶体管和读取晶体管,感光晶体管和读取晶体管共用一个复合介质栅,复合介质栅包括第一底层介质层、电荷耦合层、顶层介质层和控制栅,读取晶体管设有源端和漏端,读取晶体管的衬底上还依次设有第二底层介质层和选择栅,第二底层介质层和选择栅与复合介质栅为独立的两部分。本发明光敏探测器的读出方式包括通过在线性区读电流的方式或者通过源跟随读电压的方式。本发明基于多栅结构的复合介质栅光敏探测器为传统的复合介质栅光敏探测器提供了降低噪声和多种读出方式和工作模式的选择,为复合介质栅光敏探测器在成像应用上提供了更多的选择和功能。

技术领域

本发明涉及一种新型的光敏探测器结构,尤其是一种多栅的复合介质栅光敏探测器,并为复合介质栅光敏探测器提供多种工作方法。

背景技术

光敏探测器作为光电信号转换器能有效地将光信号转换为电信号并进一步地显示出图像,并广泛应用于日常生活、安防领域、国防领域等中,目前主流的光敏探测器分为CCD和CMOS-APS两大类,并在不同的领域中有着各自的优势。

基于复合介质栅的光敏探测器由于其自身结构,有着结合CCD和CMOS-APS两种光敏探测器的优势,有望成为新一代的主流的光敏探测器。但典型的基于复合介质栅的光敏探测器的读取晶体管一般只有一个栅极,这大大限制了该光敏探测器的工作方式。这种探测器通常使用扫斜坡电压的方式进行读取,在电路设计上以及功能应用上有困难。

发明内容

鉴于现有技术中存在的缺陷,本发明改进了基于复合介质栅的光敏探测器的结构,将其改为多栅的结构,能为探测器提供更多的工作方法。

本发明采用的技术方案如下:

一种多栅的复合介质栅光敏探测器,包括形成在同一衬底上的感光晶体管和读取晶体管,所述感光晶体管和读取晶体管共用一个复合介质栅,所述复合介质栅包括第一底层介质层、电荷耦合层、顶层介质层和控制栅,所述读取晶体管设有源端和漏端,其特征在于,所述读取晶体管的衬底上还依次设有第二底层介质层和选择栅,所述第二底层介质层和选择栅与所述复合介质栅为独立的两部分。

本发明另一种多栅的复合介质栅光敏探测器,所述感光晶体管包括第一复合介质栅,所述读取晶体管包括第二复合介质栅、源端和漏端,其特征在于,第一复合介质栅和第二复合介质栅共用底层介质层、电荷耦合层和顶层介质层,所述第一复合介质栅最上方为控制栅,所述第二复合介质栅最上方为选择栅,所述第二复合介质栅的底层介质层和选择栅对电荷耦合层和顶层介质层形成半包围结构;所述选择栅与所述控制栅为独立的两部分。

本发明提供上述一种多栅的复合介质栅光敏探测器的工作方法,包括以下步骤:

(1)复位:在控制栅加负压,将衬底接地,将所述光敏探测器的感光晶体管收集的电子进行复位;

(2)曝光:在控制栅加正压,将衬底接地或加负压;当有光照时,光电子的能量大于衬底的禁带宽度时,将激发出一个电子空穴对,在耗尽区的电场作用下,感光晶体管收集产生的光电子,感光晶体管的电势将发生改变,并耦合到复合介质栅的电荷耦合层改变电荷耦合层的电势,从而对读取晶体管进行控制;

(3)读出:在读出阶段时,控制栅加正压,在衬底加负压或接地,漏端加正压使所述读取晶体管工作在线性区或饱和区,源端接地或接电流源,所述选择栅加正压使得读取晶体管开启,读取漏端电流或源端电压。

进一步地,所述步骤(3)的读出阶段,所述选择栅与控制栅均加高压,其电压应高于所述光敏探测器在满阱状态时读取晶体管的阈值电压,使所述读取晶体管处于开启状态,漏端加低压,源端接地,其漏端所加电压应使所述光敏探测器在满阱状态时读取晶体管工作在线性区,此时所述感光晶体管收集的光电子耦合在复合介质栅的电荷耦合层,改变其电势,并调控所述读取晶体管的漏端电流,从而进一步地实现对光信号的量化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学,未经南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211645057.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top