[发明专利]一种晶圆抛光系统及晶圆传输方法

权利要求书

1.一种晶圆抛光系统，包括抛光单元；

所述抛光单元包括晶圆传输通道，及抛光模组；

所述抛光模组包括抛光平台和抛光臂，所述抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；

所述晶圆传输通道上具有至少两个工作位，晶圆装卸台可在所述工作位之间移动；

其特征在于：相邻抛光单元之间设有传递结构，该传递结构沿着第一轨迹在两者的工作位之间传输晶圆，该第一轨迹落在晶圆传输通道上；

和/或，所述晶圆装卸台可于相邻抛光单元之间移动；

和/或，抛光单元和外界中转台之间设有传送结构，该传送结构沿着第二轨迹在两者的工作位之间传输晶圆，该第二轨迹落在晶圆传输通道上。

2.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：还包括顶部传输机构，其沿着第三轨迹在所有抛光单元之间传输晶圆，该第三轨迹落在晶圆传输通道上；

或者，顶部传输机构沿着第四轨迹在任意抛光单元和外界中转台之间传输晶圆，该第四轨迹落在晶圆传输通道上。

3.根据权利要求2所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述顶部传输机构位于传递结构和/或传送结构的上方。

4.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述传递结构包括用于夹持晶圆的夹持单元，及翻转单元，所述翻转单元用于带动夹持单元和晶圆在晶圆传输通道内向前或向后翻转。

5.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述传递结构包括用于夹持晶圆的夹持单元，平移单元，及升降单元，所述平移单元用于带着夹持单元和晶圆在晶圆传输通道内平移，所述升降单元用于带动整体上升或下降，以使得传递结构位于抛光平台的下方或上方。

6.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述传递结构包括基座和与其相连的伸缩臂，所述伸缩臂自抛光平台上方区域向下延伸，或者，伸缩臂自抛光平台下方区域向上延伸。

7.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述传递结构包括位于相邻抛光单元之间的辅助工作位，及设于辅助工作位上方或下方的辅助转移单元，相邻抛光单元的晶圆装卸台均可移动至辅助工作位，所述辅助转移单元用于吸附辅助工作位上的晶圆，或者用于将晶圆置于辅助工作位上的晶圆装卸台；所述辅助转移单元位于抛光平台的下方或上方。

8.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：可在相邻抛光单元之间移动的晶圆装卸台的至少部分移动路径重叠，该重叠路径内包含至少一工作位。

9.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：相邻抛光单元之间具有间隙。

10.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：同一个抛光单元的相邻工作位之间设有传递结构。

11.根据权利要求1所述的晶圆抛光系统，其特征在于：所述传递结构和传送结构相同。

12.一种晶圆抛光系统的晶圆传输方法，所述晶圆抛光系统包括抛光单元，该抛光单元包括晶圆传输通道，所述晶圆传输通道上具有至少两个工作位，晶圆装卸台可在所述工作位之间移动；其特征在于，晶圆传输方法包括以下步骤：

传递结构沿着第一轨迹将晶圆从抛光单元的工作位传输至另一相邻抛光单元的工作位，该第一轨迹落在晶圆传输通道上。

13.根据权利要求12所述的晶圆抛光系统的晶圆传输方法，其特征在于，包括以下步骤：传送结构沿着第二轨迹将晶圆从抛光单元的工作位传输至外界中转台，或从外界中转台传输至抛光单元的工作位，该第二轨迹落在晶圆传输通道上。